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Konzern-Lagebericht

zum 31. Dezember 2012

Dieser Lagebericht betrifft den Konzernabschluss der AIXTRON SE (ehemals AIXTRON AG), in den folgende Tochterunternehmen einbezogen sind (zusammen als „AIXTRON", „AIXTRON Konzern", „das Unternehmen" oder „die Gesellschaft" bezeichnet): AIXTRON, Inc., Sunnyvale (USA); AIXTRON Ltd., Cambridge (GB); Nanoinstruments Ltd., Cambridge (GB); AIXTRON AB, Lund (Schweden); AIXTRON Korea Co. Ltd., Seoul (Südkorea); AIXTRON China Ltd., Shanghai (China); AIXTRON KK, Tokio (Japan) und AIXTRON Taiwan Co. Ltd., Hsinchu (Taiwan).

Der Konzernabschluss der Gesellschaft ist nach internationalen Rechnungslegungsvorschriften (International Financial Reporting Standards oder „IFRS") aufgestellt, welche vom International Accounting Standards Board („IASB") entwickelt wurden. Alle in diesem Konzern-Lagebericht enthaltenen Finanzzahlen, einschließlich der Vergleichszahlen für das Vorjahr, sind nach IFRS ausgewiesen. Im Kapitel „Wesentliche Bilanzierungs- und Bewertungsmethoden" des Konzern-Anhangs werden zusätzliche Angaben zu den zugrunde liegenden Rechnungslegungsvorschriften gemacht.

Aufgrund von Rundungsdifferenzen ist es möglich, dass in der Summierung der Einzelpositionen Unterschiede zu den angegebenen Summen auftreten und aus diesem Grund auch Prozentsätze nicht genau den absoluten Zahlen entsprechen könnten.

Dieser Bericht kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON im Sinne der Safe Harbor-Bestimmungen des US-amerikanischen Private Securities Litigation Reform Act von 1995 enthalten. Begriffe wie können, werden, erwarten, rechnen mit, erwägen, beabsichtigen, planen, glauben, fortdauern und schätzen, Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichteten Aussagen geben unsere gegenwärtigen Beurteilungen und Annahmen wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Die tatsächlichen Ergebnisse und Trends können wesentlich von unseren zukunftsgerichteten Aussagen abweichen. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen aufgeführt und bei der U.S. Securities and Exchange Commission eingereicht hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands sowie den ihm derzeit verfügbaren Informationen und haben Gültigkeit zum Zeitpunkt dieser Mitteilung. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

1
Geschäft und Rahmenbedingungen

Nachstehende Tabelle beinhaltet eine Liste der AIXTRON Tochterunternehmen zum 31. Dezember 2012:

Name

Ort der Handelsregistereintragung

Kapitalanteil in %

AIXTRON Ltd.

England & Wales

 100

AIXTRON AB

Schweden

 100

AIXTRON Korea Co. Ltd.

Südkorea  100

AIXTRON KK

Japan  100

AIXTRON China Ltd.

China  100

AIXTRON Taiwan Co. Ltd.

Taiwan  100

AIXTRON, Inc.

USA  100

Nanoinstruments Ltd.

England & Wales  100

Genus Trust*

USA  n.a.

* Die Aktien im Genus-Treuhandvermögen werden als eigene Aktien der AIXTRON SE ausgewiesen.

Zum 31. Dezember 2012 gehörten dem AIXTRON Vorstand der SE die drei folgenden Mitglieder an:

Name Funktion Erstmalige Bestellung Bestellt bis
Paul Hyland Vorsitzender des Vorstands 1. April 2002 28. Februar 2013
Wolfgang Breme Finanzvorstand 1. April 2005 31. März 20161)
Dr. Bernd Schulte Vorstandsmitglied 1. April 2002 31. März 2015

1) Wiederbestellt am 5. Dezember 2012

Dem Aufsichtsrat der AIXTRON SE gehörten zum Ende des Geschäftsjahres 2012 die folgenden sechs Personen an:

Name Funktion Mitglied seit Bestellt bis
Kim Schindelhauer1)2)3)4)

Vorsitzender des Aufsichtsrats

2002

HV 2016

Dr. Holger Jürgensen1)2)4)6)

Stellvertretender Vorsitzender des Aufsichtsrats

2002

HV 2016

Prof. Dr. Wolfgang Blättchen1)

Vorsitzender des Prüfungsausschus­ses, unabhängiger Finanzexperte5)

1998

HV 2016

Prof. Dr. Petra Denk2)3)

Vorsitzende des Technologieaus­schusses

2011

HV 2016

Karl-Hermann Kuklies6)

  1997

HV 2016

Prof. Dr. Rüdiger von Rosen3)

Vorsitzender des Nominierungsausschusses

2002

HV 2016

1) Mitglied des Prüfungsausschusses
2) Mitglied des Technologieausschusses
3) Mitglied des Nominierungsausschusses
4) Ehemaliges AIXTRON Vorstandsmitglied
5) Seit 2005
6) Ausgeschieden zum 30. Januar 2013

Für die Festlegung der Struktur des Vergütungssystems sowie der Gesamtvergütung der einzelnen Vorstandsmitglieder ist der Aufsichtsrat in seiner Gesamtheit zuständig. Die Angemessenheit der Vergütungsbestandteile wird regelmäßig durch den Aufsichtsrat überprüft. Dabei wird auch darauf geachtet, dass sie nicht zum Eingehen unangemessener Risiken verleiten.

Die Vergütung der Vorstandsmitglieder der AIXTRON orientiert sich an der wirtschaftlichen und finanziellen Lage und den Zukunftsaussichten des Unternehmens sowie an der üblichen Höhe und Struktur der Vorstandsvergütung bei vergleichbaren Unternehmen sowie der Vergütungsstruktur, die ansonsten im Unternehmen gilt. Zusätzlich werden die Aufgaben des jeweiligen Vorstandsmitglieds, dessen Erfahrung und persönliche Leistung bei der Bemessung der Vergütung berücksichtigt. Die Vorstandsvergütung besteht derzeit aus drei Komponenten: einer festen Vergütung (einschließlich Sachbezügen und Zuschüssen für eine individuelle private Altersvorsorge), einem variablen Bonus und einer aktienbasierten Vergütung. Für die feste Vergütung ist im Vorstandsdienstvertrag ein Jahreseinkommen festgelegt. Das Fixum als erfolgsunabhängige Grundvergütung wird monatlich (13-mal pro Jahr) als Gehalt ausgezahlt. Hinzu kommen Sachbezüge, im Wesentlichen aus der Dienstwagenbenutzung, sowie Zuschüsse für eine individuelle private Altersversorgung.

Der variable Bonus („Tantieme") für den gesamten Vorstand orientiert sich am Konzernjahresüberschuss. Er wird aus einem „Gesamttantiemetopf" gezahlt, der insgesamt bis zu 10% des modifizierten Konzernjahresüberschusses, jedoch maximal EUR 6,5 Mio., ausmachen kann. Der modifizierte Konzernjahresüberschuss ergibt sich aus dem vom Abschlussprüfer testierten Konzernabschluss (IFRS) der Gesellschaft, vermindert um einen Konzern-Verlustvortrag und um Beträge, die nach Gesetz oder Satzung im Jahresabschluss der AIXTRON in Gewinnrücklagen einzustellen sind. Der Konzern-Verlustvortrag ergibt sich aus Konzernjahresfehlbeträgen aus Vorjahren, vermindert um Konzernjahresüberschüsse aus darauf folgenden Geschäftsjahren.

Zusätzlich können die Mitglieder des Vorstands als variable Komponente mit langfristiger Anreizwirkung und Risikocharakter eine aktienbasierte Vergütung in Form von Optionsrechten aus den Aktienoptionsprogrammen der AIXTRON beziehen. Die Anzahl der Optionsrechte für den Vorstand wird vom Aufsichtsrat festgelegt.

Die derzeitigen Vorstandsmitglieder verfügen nicht über individuelle Pensionszusagen, daher werden für sie keine Pensionsrückstellungen gebildet. Auch erhalten sie keine Kredite von der Gesellschaft.

Die Vergütung des Aufsichtsrats ist in der Satzung der AIXTRON SE geregelt. Danach beträgt die jährliche feste Vergütung für das einzelne Mitglied des Aufsichtsrats EUR 25.000, für den Vorsitzenden das Dreifache dessen und für den stellvertretenden Vorsitzenden das Eineinhalbfache der Vergütung eines einfachen Aufsichtsratsmitglieds. Mitglieder des Aufsichtsrats erhalten als variable Vergütung insgesamt 1% des Bilanzgewinns der Gesellschaft, vermindert um einen Betrag von 4% der auf das Grundkapital geleisteten Einlage. Der Vorsitzende des Aufsichtsrats erhält 6/17, der stellvertretende Vorsitzende 3/17 und ein Mitglied des Aufsichtsrats 2/17 der variablen Vergütung. Die Höhe der variablen Vergütung wird auf das Vierfache der Festvergütung je Aufsichtsratsmitglied begrenzt. Ferner erhalten Ausschussmitglieder ein Sitzungsgeld in Höhe von EUR 2.000 für die Teilnahme an einer Ausschusssitzung; dabei erhält der Vorsitzende des Ausschusses das Dreifache dessen. Das Sitzungsgeld wird in der Summe pro Jahr je Aufsichtsratsmitglied auf das Eineinhalbfache der jeweiligen festen Vergütung dieser Person beschränkt.

Die Mitglieder des Aufsichtsrats erhalten vom Unternehmen keine Kredite.

Die Gesellschaft hat für alle Vorstands- und Aufsichtsratsmitglieder eine D&O-Versicherung abgeschlossen. Nach dem Inkrafttreten des Gesetzes zur Angemessenheit der Vorstandsvergütung (VorstAG) wurden die D&O-Versicherungsverträge für die Vorstands- und auch die Aufsichtsratsmitglieder der AIXTRON an die geänderten Vorgaben des § 93 Abs. 2 AktG sowie die überarbeitete Empfehlung 3.8 des Deutschen CORPORATE GOVERNANCE Kodex angepasst: demnach gilt für alle Mitglieder des Vorstands und des Aufsichtsrats ein Selbstbehalt in Höhe von mindestens 10% des jeweils eingetretenen Schadens, jedoch maximal bis zur Höhe des Eineinhalbfachen der jeweiligen festen jährlichen Vergütung.

Zusätzliche Angaben zur Vergütung der einzelnen Vorstands- und Aufsichtsratsmitglieder sowie eine genaue Auflistung der ausstehenden Vorstandsoptionen finden sich in Anmerkung 30 des Konzernanhangs.

Das Grundkapital der AIXTRON SE betrug zum 31. Dezember 2012 EUR 101.975.023 (31. Dezember 2011: 101.789.527; 31. Dezember 2010: EUR 101.179.866). Es ist eingeteilt in 101.975.023 auf den Namen lautende Stammaktien ohne Nennbetrag mit einem anteiligen Betrag am Grundkapital von EUR 1,00 je Aktie. Je eine Namensaktie ist anteilig am Grundkapital der Gesellschaft beteiligt und mit je einer Stimme auf der Hauptversammlung voll stimmberechtigt. Sämtliche Namensaktien sind voll eingezahlt. Die Aktien sind in Form einer Globalsammelurkunde hinterlegt; der Anspruch der Aktionäre auf Verbriefung ihres Anteils ist ausgeschlossen. Weder das Stimmrecht je Aktie noch die Übertragbarkeit der Aktien der Gesellschaft unterliegen gesellschaftsrechtlichen satzungsmäßigen Beschränkungen. Es bestehen keine Aktiengattungen mit Sonderrechten, die Kontrollbefugnisse verleihen. Es bestehen auch keine Vereinbarungen zur Stimmrechtskontrolle, soweit Arbeitnehmer am Kapital beteiligt sind und ihre Stimmrechte nicht selbst ausüben.

Derzeit könnte zusätzlicher Kapitalbedarf vor allem durch folgende von der Hauptversammlung genehmigte Kapitalia gedeckt werden:

Kapitalia

(EUR oder Anzahl Aktien)

2012

31. Dez.

Genehmigt

seit

Ablauf-

datum

2011

31. Dez.

2010

31. Dez.

2012-2011

Ausgegebene Aktien

101.975.023

-- -- 101.789.527

101.179.866

185.496

Genehmigtes Kapital 2012 - Bar- oder Sachkapitalerhöhung mit Bezugsrecht der Altaktionäre

10.422.817

16.05.2012

15.05.2017

0 0

10.422.817

Genehmigtes Kapital 2011 - Bar- oder Sachkapitalerhöhung mit oder ohne Bezugsrecht der Altaktionäre

40.471.946

19.05.2011

18.05.2016

40.471.946

0 0

Bedingtes Kapital I 2012 - Ermächtigung zur zukünftigen Begebung von Wandlungsrechten o. Optionsscheinen

40.715.810

16.05.2012

15.05.2017

0 0

40.715.810

Bedingtes Kapital I 2007 - Ermächtigung zur zukünftigen Begebung von Wandlungsrechten o. Optionsscheinen

aufgehoben

22.05.2007

21.05.2012

35.875.598

35.875.598

35.875.598

Bedingtes Kapital II 2012 - Aktienoptionsprogramm 2012

4.208.726

16.05.2012

15.05.2017

 0  0

4.208.726

 

Bedingtes Kapital II 2007 - Aktienoptionsprogramm 2007

3.136.628

 

22.05.2007

 

31.12.2018

3.298.774

3.681.699

-162.146

Bedingtes Kapital 4 - Aktienoptionsprogramm 2002

722.097

22.05.2002

31.12.2016

745.447

972.183

-23.350

Bedingtes Kapital 2 - Aktienoptionsprogramm 1999

1.926.005

26.05.1999

31.12.2017

1.926.005

1.926.005

 0

Die Gesellschaft ist gemäß § 71 Abs. 1 Nr. 8 AktG mit Zustimmung des Aufsichtsrats ermächtigt, bis zum 17. Mai 2015 eigene Aktien im anteiligen Betrag am Grundkapital in Höhe von bis zu EUR 10.088.195 zu erwerben. Die Ermächtigung darf von der Gesellschaft nicht zum Zweck des Handels in eigenen Aktien genutzt werden. Die Ermächtigung kann ganz oder in Teilbeträgen einmal oder mehrmals durch die Gesellschaft ausgeübt werden. Der Erwerb von eigenen Aktien darf (1) über die Börse oder (2) mittels eines an alle Aktionäre gerichteten öffentlichen Kaufangebots der Gesellschaft erfolgen.

Satzungsänderungen hinsichtlich Kapitalmaßnahmen erfordern einen Beschluss der Hauptversammlung, der durch eine Dreiviertelmehrheit des auf der Hauptversammlung vertretenen Grundkapitals gefasst wird (Art. 59 SE-VO, § 179 AktG). Andere Satzungsänderungen erfordern eine Mehrheit von zwei Dritteln der abgegebenen Stimmen oder, sofern mindestens die Hälfte des Grundkapitals vertreten ist, die einfache Mehrheit der abgegebenen Stimmen.

Zum 31. Dezember 2012 befanden sich ca. 22% der AIXTRON Aktien in Besitz von Privatpersonen, rund 78% wurden von institutionellen Investoren gehalten. Der größte nicht-institutionelle AIXTRON Aktionär war die Camma B.V., Renesse (Niederlande) mit 7,5% der AIXTRON Aktien. Circa 92,5% der Aktien befanden sich gemäß der Definition der Deutschen Börse in Streubesitz.

Bestellung und Abberufung von Vorstandsmitgliedern erfolgen durch den Aufsichtsrat der Gesellschaft. Die einzelnen Vorstandsmitglieder werden für einen Zeitraum von höchstens sechs Jahren bestellt und können danach erneut bestellt werden.

Sollte ein „Change of Control"-Tatbestand vorliegen, sind die einzelnen Vorstandsmitglieder dazu berechtigt, ihr Dienstverhältnis mit einer Kündigungsfrist von drei Monaten zum Monatsende zu kündigen und ihr Amt zum Kündigungstermin niederzulegen. Bei Beendigung der Tätigkeit aufgrund eines so genannten „Change of Control"-Tatbestands erhalten alle Vorstandsmitglieder eine Abfindung in Höhe der für die Restlaufzeit des Anstellungsvertrags von der Gesellschaft voraussichtlich geschuldeten festen und variablen Bezüge, maximal aber in Höhe von zwei Jahresbezügen. Ein „Change of Control"-Tatbestand im vorgenannten Sinne liegt vor, wenn ein Dritter oder eine Gruppe von Dritten, die ihre Anteile vertraglich zusammenlegen, um dann als ein Dritter aufzutreten, mehr als 50% des Grundkapitals der Gesellschaft direkt oder indirekt hält bzw. halten. Außer den vorgenannten bestehen keine weiteren „Change of Control"-Klauseln.

Die Gesellschaft hat ihren Hauptsitz in Herzogenrath und verfügt zum 31. Dezember 2012 weltweit über insgesamt 15 in ihrem Eigentum befindliche oder gemietete Standorte:

Standort
(zum 31. Dezember 2012)

Nutzung

Größe (ca. m²)  Ende Mietdauer

Herzogenrath (Eigentum)

Unternehmenszentrale, Produktion, Kundendienst, Konstruktion

12.457  --
Herzogenrath (Eigentum)  Forschung & Entwicklung, Produktion, Konstruktion 

16.000

--

Herzogenrath (Miete)

Verwaltung, Vertrieb

2.419

31.12.2013

Aachen (Miete) 

Forschung & Entwicklung

200

29.01.2014

Cambridge, Großbritannien (Miete) 

Produktion, Konstruktion, Forschung & Entwicklung

2.180

13.09.2019

Cambridge, Großbritannien (Miete) 

Vertrieb, Kundendienst, Konstruktion

1.386

27.06.2020

Lund, Schweden (Miete) 

Konstruktion, Kundendienst

449

31.12.2014

Sunnyvale, CA, USA (Miete) 

Produktion, Vertrieb, Kundendienst,  Konstruktion, Forschung & Entwicklung

9.338

31.10.2017

Seoul, Südkorea (Miete) 

Vertrieb, Kundendienst

1.032

31.12.2015

Shanghai, China (Miete)  Vertrieb, Kundendienst 755

31.07.2014

Suzhou, China (Miete)  Vertrieb, Kundendienst 537

31.12.2013

Yangzhou, China (Miete)

Vertrieb, Kundendienst 90

14.10.2013

Hsinchu, Taiwan (Miete)  Vertrieb, Kundendienst  1.893

31.12.2014

Tainan, Taiwan (Miete)  Kundendienst  203

26.05.2013

Tokio, Japan (Miete)  Vertrieb, Kundendienst  534

30.09.2014

Das neue Forschungs- und Entwicklungszentrum in Herzogenrath, mit einer Nutzfläche von insgesamt rund 16.000 m2 und Platz für etwa 450 Mitarbeiter, wurde fristgerecht (Phase 1 innerhalb Q3/2010 und Phase 2 innerhalb Q1/2012) fertig gestellt. Die Kosten hierfür blieben im veranschlagten Rahmen.

AIXTRON ist ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Die Produkte der Gesellschaft werden weltweit von einem breiten Kundenkreis zur Herstellung von leistungsstarken Bauelementen für elektronische und optoelektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungs-, SILIZIUM- und organischen Halbleitermaterialien genutzt. Diese BAUELEMENTE werden in der Displaytechnik, der Signal- und Lichttechnik, Glasfaser-Kommunikationsnetzen, drahtlosen und mobilen Telefonieanwendungen, der optischen und elektronischen Datenspeicherung, der Computertechnik sowie einer Reihe anderer Hochtechnologie-Anwendungen eingesetzt.

Die Geschäftstätigkeit von AIXTRON umfasst die Entwicklung, Produktion und Installation von Anlagen für die chemische Abscheidung (DEPOSITION) von Halbleitermaterialien, die Entwicklung von Verfahrenstechniken, die Beratung und Schulung sowie die laufende Kundenbetreuung.

Die Nachfrage nach den Produkten von AIXTRON wird maßgeblich beeinflusst durch die stetige Verkleinerung mikro- und optoelektronischer Bauelemente sowie gestiegene Anforderungen an die Produktivität (Prozessgeschwindigkeit, Effizienz und Betriebskosten). Mit seinen führenden Technologien zur Materialbeschichtung versetzt AIXTRON seine Kunden in die Lage, die Leistungsfähigkeit und die Qualität modernster mikro- und optoelektronischer Bauelemente zu verbessern und die Ausschussquote bei der Produktion zu verringern.

AIXTRON liefert sowohl Depositionsanlagen für die Massenproduktion als auch kleinere Anlagen beispielsweise für die Forschung und Entwicklung („F&E") und Kleinserienfertigung.

Der Schutz der Umwelt und ein verantwortungsbewusster Umgang mit Ressourcen sind ein wichtiger Teil der Geschäftsstrategie. Die Ingenieure der Gesellschaft arbeiten daher daran, die AIXTRON Anlagen sowohl hinsichtlich des Erhalts von Ressourcen als auch hinsichtlich einer umweltfreundlichen Konstruktion und Funktion ständig zu verbessern.

Das Geschäft der Gruppe unterliegt einer Reihe von Risiken, welche die  Geschäftsentwicklung, das Geschäftsmodell und die Geschäftsstrategie nachteilig beeinflussen können. Eine ausführliche Aufstellung dieser Risiken befindet sich im Kapitel Risikobericht.

Der Erfolg des Unternehmens wird maßgeblich durch die Leistung und Motivation der Mitarbeiter beeinflusst. Die Mitarbeiterauswahl bei AIXTRON erfolgt nach fachlichen und persönlichen Qualifikationen sowie Erfahrungen. Neben direkten Stellenangeboten ist das Unternehmen regelmäßig auf Jobmessen und ähnlichen Veranstaltungen vertreten, in der lokalen Presse präsent und kooperiert darüber hinaus eng mit Universitäten weltweit, wie z.B. der RWTH Aachen und der Cambridge-Universität, um neue Mitarbeiter zu gewinnen.

Als global agierendes Unternehmen mit einer internationalen Firmenkultur fördert AIXTRON auch die Vielfalt („Diversity") im Unternehmen. Ziel ist hierbei, eine produktive Gesamtatmosphäre im Unternehmen zu erreichen, soziale Diskriminierung von Minderheiten zu verhindern und eine Kultur der Chancengleichheit zu etablieren.

Im Geschäftsjahr 2012 ging die Zahl der Mitarbeiter von 978 zum Ende des Jahres 2011 (2010: 784) um 1% auf 964 zum 31. Dezember 2012 zurück. Während die Bereiche Produktion & Service und Verwaltung aufgrund des geringeren Geschäftsvolumens weniger Personal benötigten, nahm die Zahl der Beschäftigten im Bereich Forschung & Entwicklung weiter zu, was auch den hohen Stellenwert von F&E für die Gesellschaft unterstreicht.

Mitarbeiter nach Funktionsbereichen

2012

2011 2010

2012-2011

  31. Dez. % 31. Dez. % 31. Dez. % abs. %
Vertrieb 88 9 85 9 62 8 3 4

Forschung und Entwicklung

333 35 318 32 248 32 15 5

Produktion und Service

427 44 450 46 375 48 -23 -5

Verwaltung

116 12 125 13 99 12 -9 -7

Gesamt

964 100 978 100 784 100 -14 -1

Zum 31. Dezember 2012 war der größte Teil der weltweiten Belegschaft von AIXTRON, wie in den Vorjahren, in Europa beschäftigt. Der Rückgang der Mitarbeiterzahl in den USA um 21 Personen (15%) im Jahr 2012 ist auf die durchgeführten Kostensenkungsmaßnahmen zurückzuführen.

Mitarbeiter nach Regionen

2012

2011

2010

2012-2011

  31. Dez. % 31. Dez. % 31. Dez. % abs. %
Asien 188 20 181 19 154 20 7 4
Europa 660 68 660 67 524 67 0 0
USA 116 12 137 14 106 13 -21 -15
Gesamt 964 100 978 100 784 100 -14 -1

Die AIXTRON Produktpalette umfasst kundenspezifische Anlagen sowohl für die Massenproduktion als auch zu Forschungszwecken. Die Anlagen dienen der chemischen Abscheidung (DEPOSITION) von Dünnschichtmaterialien auf Substraten verschiedener Größen und Werkstoffe.

Zur Gasphasenabscheidung sog. III/V-VERBINDUNGSHALBLEITER-Materialien wird beispielsweise das „MOCVD"-Verfahren (Metall-Organische Gasphasenabscheidung) angewendet. Zur Abscheidung organischer Dünnschichtmaterialien auf Substratgrößen der Generation 3.5 dient das „PVPD®"(Polymer-Gasphasenabscheidung)-Verfahren. In diesem Bereich werden auch das „OVPD®"-Verfahren (Organische Gasphasenabscheidung) bzw. großflächige Abscheidungsverfahren für die Herstellung von „OLEDS" (Organische Licht-emittierende Dioden) verwendet. Auch das Verfahren der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung („PECVD") zur Herstellung komplexer Kohlenstoff-Nanostrukturen (Kohlenstoff-Nanoröhren, -drähte oder Graphen) kann mit AIXTRON Anlagen angewandt werden.

Im Bereich der Siliziumhalbleiter sind AIXTRON Anlagen in der Lage, WAFER mit bis zu 300mm Durchmesser zu beschichten. Ermöglicht wird dies anhand chemischer Gasphasenabscheidung („CVD"), atomarer Gasphasenabscheidung („AVD®") oder „Atomic Layer Deposition" („ALD").

In der folgenden Tabelle sind die angebotenen Produkte und Technologien sowie die entsprechenden Anwendungen und BAUELEMENTE zusammengefasst:

Material

 

Verbindungshalbleiter

Organische HALBLEITER

Siliziumhalbleiter
Systemtechnologie

MOCVD

OVPD®

CVD

  CVD PVPD® ALD
  PECVD -

AVD®

Produkte

PLANETARY REACTOR®

Gen1 Forschungssystem

Lynx CVD

 

Close Coupled Showerhead®

Cluster-Umgebung für Forschungssystem

Tricent® ALD

  Nano CVD Reaktoren: BM Serie

Produktionssysteme für Cluster und Inline-Integration mit verschiedenen Substratgrößen (z. B. Gen2, Gen3.5 und größer)

Tricent® AVD®

  Hot-Wall Reaktoren: VP-Serie  

QXP-8300

Mögliche Anwendungen

LEDS

OLEDs für Bildschirme

Metall- und Oxidschichten für CMOS-Steuerelektroden

 

Optoelektronik (Fotodioden, Laser, Modulatoren für Datenübertragung/Telefonie)

OLEDs für Festkörperbeleuchtung

Metall- und Oxidschichten für Kondensatorstrukturen in DRAMs und FeRAMs

 

Laser für Unterhaltungselektronik (CDs, DVDs)

Organische, transparente Dünnfilm Solarzellen

 
 

Hochfrequenzeinheiten („Hetero Bipolar Transistors" und „High Electron Mobility Transistors" (HBTs, HEMTs)) für drahtlose Telefonie

Elektronische Halbleiterstrukturen, z. B. für flexible Bildschirme

 
 

Siliziumcarbid (SiC)-basierte Hochstromeinheiten

Funktionale Polymerschichten

 
 

Galliumnitrid (GaN)- basierende Leistungsbauelemente

Dielektrische oder passivierende Polymerschichten

 
 

Kohlenstoff Nanostrukturen zur Anwendung in der Elektronik, für Bildschirme und in der Hitzeableitung

   
 

Graphen-Strukturen für elektronische Anwendungen

   
 

Solarzellen

   

(Stand: 31. Dezember 2012)

AIXTRON liefert darüber hinaus eine breite Palette an Peripheriegeräten und Dienstleistungen. Zusätzlich bietet AIXTRON seinen Kunden Systemunterstützung, Schulung und Beratung.

Neben dem hochmodernen F&E-Zentrum am Hauptsitz in Herzogenrath unterhält AIXTRON weitere Forschungs- und Entwicklungslabore in Aachen, Cambridge (GB) und Sunnyvale (USA). Diese mit neuesten Generationen bestehender AIXTRON Anlagen ausgestatteten Labore dienen der Erforschung und Entwicklung neuer Systeme, Materialien und Verfahren zur Produktion von Halbleiterstrukturen.

Auch in dem schwierigen wirtschaftlichen Umfeld des vergangenen Jahres hat AIXTRON ein finanzkräftiges und fokussiertes F&E-Programm weitergeführt. Der Vorstand legte weiterhin großes Augenmerk auf die Optimierung der internen F&E-Projekte und -Prozesse, um einen möglichst effizienten und marktorientierten Einsatz des F&E-Budgets sicherzustellen. Eine ausgeprägte F&E-Kultur war Grundlage für AIXTRONs vergangene Erfolge im Anlagenmarkt und ist auch zukünftig die Basis für die Umsetzung der Unternehmensziele. Dies gilt insbesondere auch für die neuen Märkte, für die AIXTRON derzeit Produkte entwickelt. AIXTRON beschäftigte im Geschäftsjahr 2012 durchschnittlich ein Team von 337 engagierten und hochqualifizierten F&E-Mitarbeitern (2011: 279; 2010: 240).

Nähere Informationen zu den F&E-Aufwendungen in den Geschäftsjahren 2010 bis 2012 finden sich im Kapitel „Ergebnisentwicklung" in diesem Bericht.

Um seine Stellung als ein technologisch und marktführendes Unternehmen zu behaupten, legte AIXTRON im Geschäftsjahr 2012 einen Schwerpunkt der F&E-Aktivitäten auf die kontinuierliche Verbesserung der bestehenden AIXTRON Anlagentechnologien, wie z. B. Erweiterung der Prozessfähigkeiten, stärkere Fertigungsintegration, höhere Automatisierungsgrade und die Entwicklung neuer Systemarchitekturen, um den mit steigendem Margendruck konfrontierten Kunden weitere Verbesserungen bei Effizienz, Durchsatz und Betriebskosten zu bieten.

Basierend auf der Kernkompetenz der Abscheidungstechnologie, arbeitet AIXTRON darüber hinaus kontinuierlich an der Erschließung neuer Technologie- und Marktsegmente außerhalb der LED-Industrie. Das belegen zahlreiche intern und extern geförderte Forschungsprojekte bei AIXTRON. Von besonderem Interesse sind dabei:

  • Lösungen für die DEPOSITION großflächiger organischer Materialien für optoelektronische Anwendungen, wie etwa Plastikelektronik, OLED-Beleuchtung, OLED-DISPLAYS, Solarzellen und andere Anwendungen.
  • SiC für Hochleistungselektronik zum Einsatz in intelligenten Energienetzen (Smart Grid), Hybrid- und Elektrofahrzeugen sowie anderen Anwendungen.
  • III-V-Materialien (einschließlich GaN) auf SILIZIUM für die nächste Generation von LEDS, Leistungselektronik oder Hochgeschwindigkeitsprozessoren für Smart Grid, drahtlose Kommunikation, Beleuchtung und fortgeschrittene IT-Anwendungen.
  • Kohlenstoff-Nanostrukturen (einschließlich Graphen und CNTs) für kommende Transistorgenerationen, Optoelektronik und andere Anwendungen.

Ein typisches Beispiel aus dem OLED-Bereich ist das neue nationale Forschungsprojekt „PROLUX", das im zweiten Quartal 2012 genehmigt und gestartet wurde. Ziel des öffentlich geförderten Projekts ist eine deutliche Steigerung der OLED-Effizienz durch verbesserte Depositionsprozesse. Das Gemeinschaftsprojekt wird von mehreren namhaften Forschungspartnern – einschließlich AIXTRON, Philips, der RWTH Aachen und des renommierten Fraunhofer-Instituts für Lasertechnologie ILT – durchgeführt und vom Bundesland Nordrhein-Westfalen gefördert. AIXTRONs wesentliche Aufgabe in diesem Forschungsprojekt besteht in der Entwicklung und Integration neuer Systemtechnologien in seine bestehenden OVPD®-Anlagen, Anlagen zur großflächigen Abscheidung organischer Materialien und PVPD-Anlagen sowie in der Unterstützung der Entwicklungsaktivitäten der anderen Partner.

In Q3/2012 startete AIXTRON unter dem Namen „KOBALT" ein neues OLED-Projekt, das auf die Entwicklung kosteneffizienter, großflächiger OLEDS für den Beleuchtungsmarkt ausgerichtet ist. Das Projekt wird teilweise gefördert durch das deutsche Bundesministerium für Bildung und Forschung („BMBF"). Gemeinsam mit den Industriepartnern Philips und BASF wird AIXTRON neue OLED-Substrate und -Materialien erproben und qualifizieren, die zur Entwicklung hoch effizienter weißer OLEDs beitragen können. Das Projekt befasst sich außerdem mit den Interessenfeldern der Nutzung kostengünstiger Standardglas-Substrate sowie der Entwicklung von flexiblen Foliensubstraten. Das übergeordnete Ziel des Projekts ist es, die Chancen einer erfolgreichen Markteinführung von OLED-Beleuchtungsanwendungen durch verbesserte Leistungsdaten und längere Lebensdauer zu erhöhen.

Der am 5. Juli 2012 bekannt gegebene erfolgreiche Abschluss des von der Europäischen Kommission geförderten Projekts „TECHNOTUBES" ist ein gutes Beispiel für die Fortschritte, die in dem sich entwickelnden Bereich der Kohlenstoff-Nanoröhren erzielt wurden. Die Mitglieder des Projektkonsortiums waren die Universität Cambridge (als Koordinator), ETH Zürich, TU Dänemark, TU Berlin, das Fritz Haber Institut, CNR-Italien, Philips, THALES, Cambridge CMOS Sensors, IMEC sowie AIXTRON. Das drei Jahre dauernde Projekt endete mit einer Demonstration der von AIXTRON kürzlich entwickelten automatisierten BM 300T-Produktionsanlage. Diese neue Anlage ist in der Lage, zahlreiche Kohlenstoff-Nanoröhren abzuscheiden, die den Anforderungen eines breiten Spektrums möglicher Anwendungen entsprechen. Sie kann verschiedene Prozesse auf einer einzigen automatisierten Plattform integrieren, welche die von den industriellen Produktionspartnern gestellten Ansprüche vollständig erfüllt. Die Anlage ist bei verschiedenen namhaften Industrieunternehmen bereits auf erhebliches Interesse gestoßen.

Aus Sicht des Vorstands ermöglicht eine starke und marktorientierte F&E-Kultur eine Verbesserung der Betriebskosten und der Effizienzkennzahlen für AIXTRONs Kunden. Für AIXTRON ist und bleibt sie die Basis für eine langfristige Technologieführerschaft.

AIXTRON bemüht sich darum, seine Technologie über entsprechende Patente zu sichern, sofern dies für das Unternehmen strategisch sinnvoll und möglich ist. Zum 31. Dezember 2012 nutzte die Gesellschaft 157 patentrechtlich geschützte Erfindungen, von denen im Berichtszeitraum 14 zum Patent angemeldet wurden. Patentschutz für diese Erfindungen besteht in den für AIXTRON wesentlichen Absatzmärkten, insbesondere in Europa, China, Japan, Südkorea, Taiwan und den USA. Diese Patente werden jährlich erneuert und laufen zwischen 2013 und 2032 aus.

AIXTRON konzentriert sich bei der Produktion in erster Linie auf die Endmontage, welche die Anlagenkonfiguration, -abstimmung und -prüfung umfasst. Die zur Herstellung der Anlagen erforderlichen Komponenten und die Mehrzahl der vormontierten Baugruppen bezieht die Gesellschaft von externen Dienstleistern und Lieferanten. Diese werden sorgfältig ausgewählt und auf ihre Eignung hin überprüft, Anlagenteile oder ganze Baugruppen zu beschaffen, zu liefern und gegebenenfalls vormontieren und testen zu können. Aus strategischen Gründen gibt es für jede Komponente bzw. jede Baugruppe üblicherweise mehrere Lieferanten. Der gesamte Produktionsprozess wird von AIXTRON Mitarbeitern geleitet und überwacht. Die Endmontage wird unter Zuhilfenahme externer Dienstleister in der eigenen Produktionsstätte durchgeführt.

Seit dem Jahr 1994 erhielt AIXTRON jedes Jahr die uneingeschränkte ISO 9001-Zertifizierung. Im Jahr 2003 wurde das prozessorientierte Managementsystem erfolgreich nach dem weltweiten Qualitätsstandard DIN EN ISO 9001:2000 zertifiziert. Im Oktober 2009 erfolgte dann die Hochstufung auf die DIN EN ISO 9001:2008.

Die Gesellschaft hält sich routinemäßig an alle relevanten international gültigen Standards und Richtlinien des Maschinen- und Anlagenbaus. Durch die CE-Kennzeichnung wird die Konformität der Produkte mit den zutreffenden europäischen Richtlinien und Standards bestätigt. Darüber hinaus werden für die Zulassung von Produktionsanlagen am US-Markt die dort gültigen UL-Normen sowie die empfohlenen Richtlinien der SEMI-Organisation erfüllt. Bei der Entwicklung neuer Anlagen werden die gültigen Normen zur Erfüllung internationaler Richtlinien zur Beschränkung der Verwendung bestimmter gefährlicher Stoffe (RoHS) strengstens berücksichtigt. Die Erfüllung dieser Standards und Richtlinien sowie der entsprechenden internen COMPLIANCE-Richtlinien wird in geeigneter Weise überwacht. Verschiedene unabhängige Institutionen wie z.B. „TÜV" und „ETL" haben AIXTRON die Einhaltung ihrer Standards und Richtlinien in Form von entsprechenden Prüfzertifikaten bestätigt.

Der AIXTRON Konzern vermarktet und verkauft seine Produkte weltweit über die eigene Verkaufsorganisation sowie Handelsvertreter und Vertragshändler.

Die eigene Vertriebs- und Serviceorganisation von AIXTRON bietet dem Kunden das gesamte Spektrum von Dienstleistungen, von der ersten kundenspezifischen Entwicklung einer AIXTRON Anlage bis zur Anlageninstallation sowie Schulung der Kunden und Kundendienst nach Inbetriebnahme seiner Systeme.

AIXTRON Kunden konzentrieren sich hauptsächlich auf die Herstellung von LEDS, integrierten Schaltkreisen sowie Bauelementen für die Hochleistungselektronik, Optoelektronik oder für Drahtlos- und Speicheranwendungen. Einige dieser Kunden sind vertikal integriert und beliefern die gesamte Wertschöpfungskette bis hin zum Endverbraucher. Andere wiederum sind unabhängige Hersteller von Bauelementen, welche die auf AIXTRON Anlagen produzierten CHIPS und BAUELEMENTE an Unternehmen der nächsten Stufe in der Wertschöpfungskette, die Hersteller elektronischer Geräte, liefern. Zu den Kunden der Gesellschaft zählen auch Forschungsinstitute und Universitäten. Die führenden Hersteller für Bauelemente produzieren vorwiegend in Asien. Daher erzielt auch AIXTRON den Großteil seiner Umsätze dort.

Das Kapitel „Umsatzentwicklung" enthält eine detaillierte Aufstellung der Umsätze nach Technologien und Regionen.

Hauptwettbewerber im Markt für MOCVD-Anlagen ist bereits seit Langem Veeco Instruments, Inc. (USA) mit Teilen seines „LED & Solar"-Geschäftsfelds. Daneben steht AIXTRON mit verschiedenen asiatischen Herstellern im Wettbewerb, einschließlich Taiyo Nippon Sanso (Japan). Aufgrund der zunehmend positiven Wachstumsaussichten des Markts für LED-Endanwendungen, und damit auch des MOCVD-Anlagenmarkts, hat sich gezeigt, dass auch Anlagenhersteller aus benachbarten Industriezweigen versuchen, eigene MOCVD-Anlagen für ihre Kunden zu entwickeln. So haben beispielsweise Applied Materials, Inc. (USA) oder Jusung Engineering Co. Ltd. (Südkorea) jeweils an der Entwicklung eigener Anlagenlösungen zur Herstellung von LEDS gearbeitet. Auch einige chinesische Unternehmen haben, gestützt durch entsprechende Regierungsinitiativen, inzwischen mit der Entwicklung und Produktion von MOCVD-Anlagen begonnen.

Auf Basis der zuletzt veröffentlichten Studien schätzt das Marktforschungsinstitut Gartner Dataquest (März 2012) den Marktanteil von AIXTRON am weltweiten Markt für MOCVD-Anlagen in 2011 auf rund 50% (Gesamtmarktgröße 2011: USD 1,5 Mrd.). AIXTRONs Hauptwettbewerber Veeco Instruments, Inc. hielt im gleichen Zeitraum einen geschätzten Marktanteil von ca. 47%. Mittel- bis langfristiges Ziel AIXTRONs bleibt es, eine marktführende Position im weltweiten MOCVD-Anlagenmarkt einzunehmen, welcher sich weiterhin maßgeblich auf AIXTRON und Veeco Instruments, Inc. aufteilt.

In dem jungen Markt für Anlagen zur Herstellung von organischen Halbleitern konkurriert AIXTRON mit etablierten Herstellern wie Ulvac, Inc. (Japan), Tokki Corporation (Japan), Sumitomo (Japan), Applied Materials, Inc. (USA), Doosan DND Co. Ltd. (Südkorea), Sunic System (Südkorea) sowie einer Anzahl kleinerer Unternehmen. Während diese vakuumthermische Verdampfungstechnologien (Vacuum Thermal Evaporation, VTE) und Polymertechnologien zur Herstellung von OLEDS (Organic Light Emitting Diodes) einsetzen, verwendet AIXTRON die hochinnovative Technologie der organischen Gasphasenabscheidung OVPD® (Organic Vapor Phase DEPOSITION) oder der polymeren Gasphasenabscheidung PVPD® (Polymer Vapor Phase Deposition) für großflächige Beschichtungen. AIXTRON ist davon überzeugt, dass diese Technologien den herkömmlichen VTE und polymertechnischen Verfahren technisch überlegen sind und erhebliche Potenziale zur Senkung der Herstellungskosten für OLEDs in sich bergen. AIXTRON sieht sich als potenzieller Lieferant von Depositionsanlagen zur Herstellung von OLEDs der nächsten Generation gut positioniert. Diese großflächigen Anwendungen werden möglicherweise in neuartigen, selbstleuchtenden DISPLAYS, in der Beleuchtung, in Solarzellen und in anderen elektronischen OLED-Anwendungen eingesetzt werden.

Die AIXTRON Systemtechnologie sowie die Kunden und deren OLED-Anwendungen befinden sich noch in der Phase der Markteinführung, weshalb Marktdaten für diesen Bereich derzeit weder verfügbar noch aussagekräftig sind.

Bei CVD-, AVD®- und ALD-Anwendungen steht AIXTRON mit diversen Anlagenherstellern im Wettbewerb. Hierzu gehören u.a. Applied Materials, Inc. (USA), Tokyo Electron Ltd. (Japan), ASM International N.V. (Niederlande), IPS Technology (Südkorea), Jusung Engineering Co. Ltd. (Südkorea) und Hitachi Kokusai Electric Co. Inc. (Japan). Mit seinen Technologien zur Herstellung von Siliziumhalbleitern ist AIXTRON für Strukturgrößen von 28nm und darunter bei Speicherchips und Mikroprozessoren gut positioniert. Diese Technologien ermöglichen eine extrem hohe Präzision bei der Abscheidung sehr dünner Materialschichten z.B. für die Herstellung komplexer dreidimensionaler Strukturen für die Mikroelektronik. Damit eröffnen sie der Halbleiterindustrie neue Möglichkeiten der Materialbeschichtung von Halbleiterbauteilen der nächsten Generation.

Der Zielmarkt für AIXTRONs Technologien zur Herstellung spezieller Anwendungen wie Steuerelektroden und Kondensatorstrukturen (Gate Stacks, Capacitors) wurde von Gartner Dataquest (Oktober 2012) für 2012 auf USD 359 Mio. geschätzt. Für Produktionsanlagen zur Herstellung von Speicherprodukten mit Strukturgrößen von 28nm und weniger lagen die AIXTRON Auftragseingänge und Umsätze hieraus in 2012 auf einem noch niedrigen Niveau. AIXTRONs Marktanteil wird daher in diesem Segment als nicht wesentlich erachtet.

Der Vorstand der AIXTRON SE setzt zur Steuerung des Unternehmens und zur Überwachung, Analyse und Dokumentation von Unternehmensrisiken und -chancen eine Vielzahl von Kontrollsystemen und -verfahren ein. Dazu gehört ein Kennzahlensystem, das die relevanten Geschäftsbereiche umfasst. Ein besonderer Fokus liegt hier auf den Steuerungsbereichen „Markt", „Finanzen" und „Technologieentwicklung".

Im Kontrollbereich „Markt" verfolgt AIXTRON eine marktorientierte Produktentwicklungsstrategie unter Zuhilfenahme externer Analysen und direkter Kundenkontakte. Die Produktentwicklungsstrategie ist gekennzeichnet durch die sorgfältige Beobachtung künftiger Marktentwicklungen und Kundenanforderungen. Das Ziel dieser Strategie ist es, rechtzeitig neue, wettbewerbsfähige und auf die Kundenbedürfnisse abgestimmte Produktgenerationen auf den Markt zu bringen.

Im Kontrollbereich „Finanzen" verwendet der Vorstand verschiedene interne und externe Kennzahlen wie Umsatzerlöse, Deckungsbeiträge, Nettoergebnisse und Cashflow. Mithilfe dieser Kennzahlen wird das Ziel verfolgt, profitables Umsatzwachstum mit entsprechend positiven Auswirkungen auf die Liquidität zu verbinden.

Den Kontrollbereich „Technologieentwicklung" prüft der Vorstand mithilfe interner und externer Kennzahlen, um die Projektfortschritte wesentlicher Forschungs- und Entwicklungsprojekte überwachen zu können. Er überprüft regelmäßig die Einhaltung von Projektplänen und Zielvorgaben, indem er beispielsweise Umsatzerlöse und Deckungsbeiträge neu eingeführter Produkte mit den Solldaten abgleicht. Hierdurch soll sichergestellt werden, dass laufende Produktentwicklungen immer den erforderlichen technischen und Marktansprüchen gerecht werden.

Aufgrund der Klassifizierung der AIXTRON Produkte ist es in Deutschland, Großbritannien und den USA gesetzlich vorgeschrieben, eine Exportlizenz (beispielsweise vom Bundesamt für Wirtschaft und Ausfuhrkontrolle, BAFA, in Deutschland, vom „Department for Business, Innovation and Skills" in Großbritannien sowie vom „Department of State" und „Department of Commerce" in den USA) für die Lieferung bestimmter Produkte in bestimmte Länder zu beantragen.

Im Rahmen von Forschung und Entwicklung wie auch in Produktion und bei der Vorführung von Anlagen werden möglicherweise gesundheitsgefährdende oder radioaktive Materialien verwendet. Daher ist AIXTRON strengen Umwelt- und Sicherheitsbestimmungen unterworfen.

Aufgrund der Börsennotiz der AIXTRON SE in den USA unterliegt das Unternehmen auch den Regelungen der amerikanischen Börsengesetzgebung sowie den Vorschriften des SARBANES-OXLEY ACT von 2002 und des Dodd Frank-Act von 2010. AIXTRON unterliegt weiteren Bestimmungen, wie beispielsweise dem US-Korruptionsschutzgesetz und dem UK Bribery Act in Bezug auf das Führen von Büchern und Aufzeichnungen zur Verhinderung von Bestechung.

2
Wichtige Einflussfaktoren

Globale wirtschaftliche Instabilität und Unsicherheit haben sich im Geschäftsjahr 2012 negativ auf die Geschäftsentwicklung von AIXTRON ausgewirkt.

Das weltwirtschaftliche Umfeld war wesentlich geprägt von der anhaltenden Staatsschuldenproblematik in Europa und den USA, was zu einem rückläufigen Weltwirtschaftswachstum, geringerer Dynamik des Welthandels und steigender Arbeitslosigkeit führte. So ging die Wachstumsrate des weltweiten Bruttoinlandsprodukts (BIP)[1] laut Internationalem Währungsfonds (IWF) von 3,9% im Jahr 2011 auf 3,2% im Jahr 2012 zurück.

In den Industrienationen[2] war das Wirtschaftswachstum weitgehend verhalten, was vor allem auf die anhaltenden Maßnahmen zur Haushaltskonsolidierung und das immer noch instabile Finanzsystem zurückzuführen war. Im Euroraum verringerte sich das BIP um 0,4%, nachdem für 2011 noch ein Wachstum von 1,4% ausgewiesen worden war. Im Gegensatz dazu konnte sich etwa die japanische Wirtschaft deutlich von dem BIP-Rückgang um 0,6% im Jahr 2011 erholen und erzielte ein Wachstum von 2,0%. Die US-Wirtschaft wuchs um 2,3% gegenüber 1,8% in 2011.

Wachstumsmotoren der Weltwirtschaft waren 2012 erneut die Schwellenländer[3]. Aufgrund von Übertragungseffekten aus den Industrienationen fiel das Wachstum hier ebenfalls geringer aus als 2011. Durchschnittlich wuchs das BIP dieser Länder um 5,1% (2011: 6,3%). Wesentliche Ursache des Rückgangs war das nachlassende Wachstum in den asiatischen Volkswirtschaften, wie etwa China und Indien. Trotz eines Anstiegs in Q4 erreichte das Wachstum in China mit 7,8% (2011: 9,3%) den niedrigsten Stand seit 13 Jahren. Auch Indien verzeichnete mit nur 4,5% (2011: 7,9%) ebenfalls ein Zehnjahrestief für das BIP-Wachstum.

Die Aktienmärkte blieben 2012 volatil und orientierten sich im Wesentlichen an der wechselhaften Nachrichtenlage zur Staatsschuldensituation in Europa und den USA. Insgesamt war die Entwicklung der Aktienmärkte im Jahr 2012 allerdings positiv, die insbesondere von der spürbaren Beruhigung der europäischen Staatsschuldenkrise in der zweiten Jahreshälfte getragen wurde. Im Ergebnis beendete der deutsche Leitindex DAX® das Jahr mit einer Steigerung von 29% bei 7.612 Punkten. Auch der TecDAX®, in dem AIXTRON gelistet ist, stieg um 21% auf 828 Punkte. Diese Entwicklung spiegelt die wirtschaftliche Sonderstellung Deutschlands im Euroraum und der EU wider: Der europäisch ausgerichtete STOXX50-Index konnte 2012 nur knapp 9% zulegen. Große internationale Indizes außerhalb des Euroraums zeigten ein gemischtes Bild: Während etwa der FTSE 100 und der DJIA nur 6% bzw. 7% zulegten, stiegen der S&P 500 um 13% und der NIKKEI um 23%.

Auch die Wechselkursentwicklung zwischen Euro und US-Dollar folgte weitgehend der Entwicklung der Staatsschuldenkrise. Zu Jahresbeginn wertete die Einigung über ein weiteres Rettungspaket für Griechenland den Euro kurzfristig auf, doch die spanische Bankenkrise führte bis Ende Juli zu einem Absinken des Wechselkurses auf ein Jahrestief von 1,210 USD/EUR.

Unter dem Eindruck der anhaltenden Staatsschuldendebatte in den USA und aufgrund der zunehmenden Beruhigung der Krise in der zweiten Jahreshälfte gab der US-Dollar bis Jahresende kontinuierlich auf 1,319 USD/EUR nach. Gegenüber dem Vorjahresschlusskurs von 1,295 USD/EUR bedeutet das eine Abwertung des US-Dollars um 2%. Im Jahresdurchschnitt lag der Wechselkurs bei 1,286 USD/EUR (2011: 1,392 USD/EUR), das entspricht einem Anstieg des US-Dollars um 8% gegenüber dem Vorjahresdurchschnitt.

Der AIXTRON Vorstand wird die Entwicklung der Weltwirtschaft und der Finanzmärkte auch weiterhin analysieren und darauf aufbauend entscheiden, welche Maßnahmen zu ergreifen sind, um AIXTRON vor nachteiligen Fremdeinwirkungen zu schützen.

[1] IWF Update des World Economic Outlook vom 23. Januar 2012
[2] einschließlich USA, Euroraum, Japan, Großbritannien, Kanada u. a.
[3] einschließlich Zentral- und Osteuropa, Russland, China, Indien u. a.

2012 verzeichnete der gesamte Anlagenbau für die Elektroindustrie (Schätzung von Gartner Dataquest im Dezember 2012) ein Wachstum von 3,2% und lag damit auf Höhe des weltweiten realen Wirtschaftswachstums (wie vom IWF im Update des World Economic Outlook am 23. Januar 2012 veröffentlicht).

Im Vergleich dazu gingen die Investitionen im Teilbereich der Halbleiterindustrie 2012 um rund 3% zurück. Investitionen in der Unterkategorie der sogenannten WAFER-Fab-Anlagen, zu denen auch die Depositionsanlagen von AIXTRON gehören, verringerten sich im Jahresvergleich um 17,4% (gemäß Gartner Dataquest, Dezember 2012). Der weltweite Markt für MOCVD-Anlagen, als Teilbereich der Wafer-Fab-Anlagen, ging von USD 1,5 Mrd. im Jahr 2011 um 60% auf ca. USD 600 Mio. im Jahr 2012 zurück (gemäß Gartner Dataquest, März 2012 und Oktober 2012).

Den größten Umsatzanteil machte trotz eines deutlichen Rückgangs wieder der Verkauf von MOCVD-Systemen zur Herstellung ultraheller LEDS (HB-LEDs): Insgesamt erwirtschaftete AIXTRON in diesem Segment 48% (2011: 83%; 2010: 93%) seiner gesamten Anlagenumsatzerlöse.

Nach einem im August 2012 veröffentlichten Bericht von Strategies Unlimited, einem unabhängigen HALBLEITER-Marktforschungsunternehmen, ist der Markt für ultrahelle LED-Baugruppen, die mit AIXTRONs Verbindungshalbleiteranlagen produziert werden können, gemessen in Stückzahlen in 2012 um 34% gestiegen.

Laut Branchenexperten sind die LED-Preise im Jahresverlauf um 20–30% gefallen und werden voraussichtlich auch 2013 in ähnlicher Größenordnung rückläufig sein. Dementsprechend prognostizierte Strategies Unlimited ein Wachstum des Marktes für ultrahelle LEDS um lediglich 1,5% von USD 12,5 Mrd. 2011 auf USD 12,7 Mrd. 2012 (Strategies Unlimited, August 2012).

Der anhaltende Rückgang der LED-Preise, politische Vorgaben und Anstrengungen seitens der Hersteller haben dazu beigetragen, dass die Akzeptanz von LED-Beleuchtungsanwendungen bei Handel, Industrie und Verbrauchern zunehmend an Dynamik gewinnt.

Im September letzten Jahres trat die letzte Stufe einer EU-Vorgabe in Kraft, die das endgültige Aus für alle herkömmlichen Glühlampen in der Europäischen Union bedeutete. Damit dürfen solche Glühlampen im Bereich der Europäischen Union weder produziert noch verkauft werden. Auch in China wurde ein ähnliches Programm für den stufenweisen Abbau herkömmlicher Glühlampen beschlossen. Das Drei-Stufen-Auslaufmodell sieht Folgendes vor: Verbot von Glühlampen mit 100 Watt und mehr seit 1. Oktober 2012, 60 Watt und darüber ab 1. Oktober 2014, 15 Watt und darüber ab dem 1. Oktober 2016. Die Umsetzung dieser Programme fördert die Aufmerksamkeit und Akzeptanz des Durchschnittsverbrauchers für energieeffiziente Beleuchtungsprodukte, einschließlich LED-Leuchtmittel.

Darüber hinaus ist die chinesische Regierung auch dazu übergegangen, anstelle der bloßen Subventionierung von LED-Produktionsanlagen direkt den Kauf von LED-Produkten durch die Verbraucher zu unterstützen. So wählten die chinesischen Behörden im August 2012 eine Reihe von Unternehmen aus, die Fördermittel aus der ersten Tranche eines Regierungsprogramms erhalten, um Preisnachlässe bei LED-Beleuchtungsprodukten an die chinesischen Verbraucher weitergeben zu können. Obwohl Umfang und Ausmaß des Förderplans noch nicht bekannt sind, zeigt diese Maßnahme das Bekenntnis der chinesischen Regierung, die LED-Industrie weiter zu fördern.

Auch Regierungen anderer Staaten haben inzwischen damit begonnen, energie- und kosteneffiziente LED-Beleuchtungsanwendungen zu fördern. Diese politischen Maßnahmen werden die Nachfrage nach LED-Leuchtmitteln zukünftig weiter steigern.

Hersteller von LED-Beleuchtungsprodukten bieten zunehmend qualitativ hochwertigere LED-Produkte zu niedrigeren Preisen an. So kündigte Osram, ein führender europäischer Leuchtmittelhersteller, im September 2012 an, einen 40-Watt-Glühlampenersatz auf LED-Basis zu einem Preis von unter EUR 10 (USD 13) auf den Markt zu bringen, was einer Preissenkung von 50% gegenüber dem Vorjahr entspräche.

Einen weiteren möglichen Hinweis auf ein akzeptables Preisniveau, das zu einer höheren Nachfrage der Verbraucher nach LED-Beleuchtung führen könnte, gibt die erfolgreiche Werbeaktion des weltweit größten Lebensmitteldiscounters im dritten Quartal 2012. Dabei bot ALDI LED-Leuchtmittel mit einer Leistung von 806 Lumen, was etwa einer 60-Watt-Glühlampe entspricht, zum Preis von EUR 9,99 (USD 13) an. Die LED-Leuchtmittel waren innerhalb weniger Stunden ausverkauft.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass sich die LED-Industrie der kritischen Preisspanne für den kommerziellen Durchbruch von LED-Leuchtmitteln inzwischen deutlich angenähert hat.

Anhaltende Investitionszurückhaltung im gesamten Jahr 2012

  • Trotz der steigenden und anhaltend hohen Kapazitätsauslastung bei einigen asiatischen Herstellern haben sich die AIXTRON Kunden im Jahresverlauf 2012 beim Aufbau neuer Produktionskapazitäten deutlich zurückgehalten. Dementsprechend gingen die Auftragseingänge im Geschäftsjahr 2012 um 74% auf EUR 131,4 Mio. zurück, waren jedoch in der zweiten Jahreshälfte rund 14% höher als im ersten Halbjahr. Die Umsatzerlöse gingen im Vergleich zu 2011 (EUR 611,0 Mio.) um 63% oder EUR 383,2 Mio. auf EUR 227,8 Mio. zurück, lagen aber damit im Rahmen der in Q3/12 gegebenen Prognose. Allerdings lagen die Umsatzerlöse des zweiten Halbjahres 2012 rund 58% höher als die des ersten Halbjahres 2012.

  • Aufgrund der anhaltend schwachen Marktnachfrage entschloss sich der Vorstand in Q3, umfangreiche Abschreibungen auf das Vorratsvermögen vorzunehmen. Dieser nicht-zahlungswirksame Aufwand hatte deutlichen Einfluss auf das Jahresergebnis der Gesellschaft und resultierte 2012 in einem Bruttoergebnis von EUR 0,4 Mio. und einem EBIT von EUR -132,3 Mio.

  • Bei einer quartalsweisen Betrachtung stiegen die Umsatzerlöse in Q4 erneut um 25% auf EUR 77,5 Mio. gegenüber EUR 62,2 Mio. in Q3. Nach einem negativen Bruttoergebnis in Q3 (EUR -42,3 Mio.), das hauptsächlich auf die oben genannten Abschreibungen auf Vorratsvermögen zurückzuführen war, wurde mit EUR 17,7 Mio. in Q4 wieder ein positives Bruttoergebnis erzielt. Aufgrund der schwachen Marktnachfrage verbesserte sich der Auftragseingang nur leicht von EUR 34,5 Mio. in Q3 auf EUR 35,5 Mio. in Q4.

  • In der LED-Industrie zeigen sich erste Anzeichen einer möglichen Konsolidierung. So berichtete der taiwanesische LED-Hersteller Epistar im August 2012 über den Erwerb der verbleibenden Anteile an dem taiwanesischen LED-Chiphersteller Huga Optotech und erhielt damit Zugang zu deren bestehenden LED-Produktionskapazitäten. Im November 2012 erwarb der chinesische LED-Hersteller Sanan Optoelectronics eine 20%-Beteiligung an dem taiwanesischen LED-Hersteller Formosa Epitaxy.

Markteinführung neuer Produkte

  • Im Jahresverlauf 2012 hat sich AIXTRON hauptsächlich auf die Weiterentwicklung und Optimierung seiner Produkttechnologien mit Blick auf die aktuellen und zukünftigen Bedürfnisse seiner Kunden konzentriert. Wenn die Nachfrage im Markt wieder anzieht, wird AIXTRON auf ein verbessertes und hochgradig wettbewerbsfähiges Produktportfolio zurückgreifen.

  • Am 24. Juli 2012 stellte AIXTRON das jüngste Produkt seiner AIX G5 Planetenreaktor®-Plattformfamilie vor, die AIX G5+, eine 5 x 8 Zoll (200 mm) WAFER-Anlage für die EPITAXIE von Galliumnitrid auf SILIZIUM (GaN-auf-Si). Diese neue, mit speziellen Hardwarekomponenten und Prozessfähigkeiten ausgestattete, Plattformvariante erfüllt die Kundenanforderungen im Bereich der Hochleistungselektronik ebenso wie die steigende Nachfrage anderer Kunden nach Lösungen für den Produktionsprozess von GaN-auf-Si-LED-CHIPS auf 8 Zoll (200 mm) Standard-Silizium-Wafern.

  • Auf dem Gebiet der organischen Halbleitermaterialien führte AIXTRON in Q3/12 die neue F&E-Plattform zur Polymer-Gasphasenabscheidung (PVPD®), PRODOS-200, ein. Zwei Wochen später gab die Gesellschaft die Auslieferung einer PRODOS-Gen3.5-PVPD®-Produktionsanlage an einen großen asiatischen Kunden bekannt. Während die F&E-Plattform die Entwicklung neuer Prozesse auf einem handlichen 200 x 200 mm großen SUBSTRAT ermöglicht, verwendet die PRODOS-Gen3.5-Produktionsanlage ein spezielles Verfahren zur Abscheidung von Polymerschichten in einem industriellen Maßstab (650 x 750 mm). Diese Produktionsanlagen dienen letztlich der Abscheidung von organischen Polymer-Dünnfilmen für die Herstellung neuartiger flexibler Elektronikbauteile. Obwohl die Technologie flexibler Elektronik sich noch in einem sehr frühen Anfangsstadium befindet, sind die Zukunftsaussichten für diese neuartige Technologie sehr vielversprechend: Sie ermöglicht es AIXTRON Kunden, vielfältige neue Anwendungen zu entwickeln.

Nicht-LED-Geschäft nimmt Fahrt auf

  • In Q3/2012 veröffentlichte AIXTRON die Mehrfachbestellung eines führenden koreanischen DRAM-Herstellers für die neueste Generation von AIXTRONs QXP-8300-ALD-Depositions-Anlage. Die Materialschicht, die von dieser QXP-8300-Produktionsanlage erzeugt wird, wurde von diesem Hersteller erfolgreich für den Einsatz bei DRAM-Strukturgrößen von unter 30 nm vorqualifiziert und anschließend, in Q4/2012, auch erfolgreich für die Massenproduktion qualifiziert. Die QXP-8300 ALD-Anlage stellt eine überzeugende und kosteneffiziente Technologielösung dar, so dass die Gesellschaft gut positioniert ist, um das erwartete Wachstum dieser fortschrittlichen DRAM-CHIP-Produktion in den kommenden Jahren zu unterstützen. Das Interesse an AIXTRONs Siliziumtechnologie ist seit der Markteinführung der QXP-8300 deutlich gestiegen. Der Vorstand erwartet, dass mit dieser Anlage weitere erhebliche Wachstumspotenziale im Bereich der ALD-Technologie möglich sind, mit der hohe Durchsatzraten erreicht werden.

  • In 2012 verzeichnete AIXTRON eine steigende Nachfrage nach F&E- und Produktionsanlagen im Markt für Hochleistungselektronik. Diese speziellen Anlagen werden von den Kunden dazu benutzt, besonders effiziente Hochleistungsbauelemente auf Galliumnitrid- (GaN) und Siliziumkarbidbasis (SiC) zu produzieren, die Markttrends wie Smart Grid, Hybrid- und Elektrofahrzeuge sowie energieeffiziente Telekommunikationsgeräte adressieren. Die Gesellschaft hat auf diesem Gebiet bereits eine lange Erfolgsgeschichte vorzuweisen und verfügt sowohl über die notwendige Expertise sowie die entsprechenden Anlagen, um von den Zukunftschancen in den sehr großen Endverbrauchermärkten zu profitieren. Laut IMS Research soll der Markt für Hochleistungsbauelemente bis 2021 auf USD 70 Mrd. pro Jahr anwachsen. Der Markt für entsprechende Produktionsanlagen wird in den nächsten zehn Jahren auf einen Gesamtwert von USD 1 Mrd. geschätzt.

  • Darüber hinaus verzeichnete AIXTRON eine Reihe neuer Bestellungen für seine dedizierten Kohlenstoff-NANOTECHNOLOGIE-Anlagen. Die BM-Anlagen der Gesellschaft sind speziell dafür entwickelt, schlüsselfertige F&E- sowie Produktionslösungen für die Herstellung von Kohlenstoff-Nanoröhren und Graphen bereitzustellen. AIXTRON geht davon aus, dass die zunehmenden Investitionen in die Anwendung dieser Materialien einen möglicherweise erheblichen Einfluss auf zukünftige Generationen elektronischer BAUELEMENTE haben werden.

3
Ertragslage

Die Umsatzerlöse im Geschäftsjahr 2012 beliefen sich auf EUR 227,8 Mio. Damit waren sie um EUR 383,2 Mio. bzw. 63% niedriger als im Jahr 2011, in dem noch Umsatzerlöse in Höhe von EUR 611,0 Mio. erwirtschaftet wurden (2010: EUR 783,8 Mio.). Wichtigster Einflussfaktor dieser Entwicklung war die allgemeine Investitionszurückhaltung der AIXTRON Kunden vor dem Hintergrund der unsicheren Absatzmarktentwicklung. Dies wurde besonders deutlich im Anlagenmarkt für LED-TV und LED-Leuchtmittel, wo AIXTRON eine deutlich geringere Nachfrage nach MOCVD-Depositionsanlagen verzeichnete als erwartet. Im vorangegangenen Geschäftsjahr 2011 war die Umsatzentwicklung hauptsächlich auf die plötzliche Verschlechterung des Geschäftsumfelds im zweiten Halbjahr zurückzuführen, in dem die Umsatzerlöse um 40% niedriger waren als im ersten Halbjahr. Die im zweiten Halbjahr 2011 beobachtete Nachfragesituation hat sich über alle vier Quartale des Geschäftsjahres 2012 weiter fortgesetzt.

Das im Jahresvergleich geringere Umsatzniveau beruhte im Wesentlichen auf einem 68%igen Rückgang der Umsatzerlöse mit Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie (2012: EUR 176,9 Mio.; 2011: EUR 556,3 Mio.; 2010: EUR 735,7 Mio.), die von den AIXTRON Kunden insbesondere für die Herstellung von LEDS verwendet werden. Diese LEDs werden wiederum hauptsächlich als Hintergrundbeleuchtungseinheiten für LCD-Bildschirme sowie in dem noch jungen Beleuchtungsmarkt eingesetzt. Insgesamt entfielen 78% der Umsatzerlöse im Jahr 2012 auf solche Anlagenverkäufe (2011: 91%; 94% in 2010).

Die restlichen 22% der Umsatzerlöse wurden im Geschäftsjahr 2012 durch den Verkauf von Ersatzteilen und Serviceleistungen erzielt, deren Anteil somit um 13 Prozentpunkte höher ausfiel als im Jahr zuvor (9% in 2011; 6% in 2010). Dies ist hauptsächlich auf die insgesamt rückläufigen Anlagenumsatzerlöse zurückzuführen. In absoluten Zahlen verringerten sich auch die Umsatzerlöse mit Ersatzteilen und Serviceleistungen in 2012 um 7% gegenüber 2011 (2012: EUR 51,0 Mio.; 2011: EUR 54,7 Mio.; 2010: EUR 48,1 Mio.).

Umsatzerlöse nach Anlagen, Ersatzteilen & Kundendienst

2012  2011  2010  2012-2011
 

Mio. EUR

%

Mio. EUR

%

Mio. EUR

%

Mio. EUR

%

Anlagen-Umsatzerlöse

 176,9  78  556,3  91  735,7  94  -379,4  -68
Sonstige Umsatzerlöse (Kundendienst, Ersatzteile etc.)  51,0  22  54,7  9  48,1  6  -3,7  -7
Gesamt  227,8  100  611,0  100  783,8  100  -383,2  -63


Mit 78% entfiel weiterhin ein sehr hoher Anteil der gesamten Umsatzerlöse in 2012 auf die Nachfrage von Kunden aus Asien. Aufgrund des zurückhaltenden Investitionsverhaltens von AIXTRONs überwiegend asiatischer Kundenbasis und eines damit erhöhten Anteils von Verkäufen nach Europa und USA bedeutet dies jedoch einen Rückgang um 12 Prozentpunkte gegenüber dem Umsatzanteil von 90% im Geschäftsjahr 2011 (91% in 2010). Der europäische Umsatzanteil im Geschäftsjahr 2012 betrug 9% (4% in 2011; 4% in 2010), die restlichen 13% der Umsatzerlöse wurden in den USA erwirtschaftet (6% in 2011; 5% in 2010).

Umsatzerlöse nach Regionen

2012 2011 2010 2012-2011
 

Mio. EUR

%

Mio. EUR

%

Mio. EUR

%

Mio. EUR

%

 Asien  177,5 78 547,8 90 716,9 91 -370,3 -68
 Europa  21,4 9 26,3 4 31,1 4 -4,9 -19
 USA  29,0 13 36,9 6 35,8 5 -7,9 -21
 Gesamt  227,8 100 611,0 100 783,8 100 -383,2 -63

Kostenstruktur

Kostenstruktur
(in EUR Millionen)

2012

Geschäftsjahr

2011

Geschäftsjahr

2010

Geschäftsjahr

2012-2011

  Umsatz % Umsatz % Umsatz %   %

Herstellungskosten

 227,4 100 379,6 62 372,0 47 -152,2 -40

Bruttoergebnis

 0,4 0 231,4 38 411,8 53 -231,0 -100

Betriebsaufwendungen

 132,7 58 118,5 19 136,2 17 14,3 12

Vertriebskosten

 34,8 15 32,1 5 48,9 6 2,7 8

Allgemeine Verwaltungskosten

 19,6 9 34,0 6 30,1 4 -14,4 -42

Forschungs- und Entwicklungskosten

 72,9 32 50,4 8 46,1 6 22,5 45

Sonstige betriebliche (Erträge) und Aufwendungen, netto

 5,5 2 2,0 0 11,1 1 3,5 175

Herstellungskosten

Die Herstellungskosten in absoluten Zahlen verringerten sich im Jahresvergleich um 40% von EUR 379,6 Mio. im Geschäftsjahr 2011 auf EUR 227,4 Mio. im Geschäftsjahr 2012 (2010: EUR 372,0 Mio.). Diese Kostenbasis liegt somit nur leicht unterhalb der erwirtschafteten Umsatzerlöse des Geschäftsjahres 2012, was hauptsächlich auf die vorgenommenen Vorratsabschreibungen in Q3/2012 zurückzuführen ist. Diese waren notwendig geworden, weil die Erholung der Auftragseingänge und Umsatzerlöse im zweiten Halbjahr 2012 schwächer als erwartet ausgefallen war als erwartet, was wiederum zu einer fortgesetzten Unterdeckung der fertigungsbedingten Gemeinkosten führte.

Bruttoergebnis, Bruttomarge

Aufgrund der relativ hohen Herstellungskosten im Geschäftsjahr 2012 verringerte sich das Bruttoergebnis der Gesellschaft im Geschäftsjahr 2012 auf EUR 0,4 Mio. (2011: EUR 231,4 Mio.; 2010: EUR 411,8 Mio.). Dies führte gleichzeitig zu einem Rückgang der Bruttomarge auf 0% gegenüber 38% im Geschäftsjahr 2011 (53% in 2010).

Betriebsaufwendungen

Die betrieblichen Aufwendungen stiegen im Jahresvergleich um 12% auf EUR 132,7 Mio. in 2012 (2011: EUR 118,5 Mio.; 2010: EUR 136,2 Mio.). In Prozent vom Umsatz betrugen sie in 2012 58% und waren damit 39 Prozentpunkte höher als die 19% in 2011 (17% in 2010). Folgende Einzeleffekte sind dabei zu berücksichtigen:

Die Vertriebskosten stiegen im Jahresvergleich leicht auf EUR 34,8 Mio. (2011: EUR 32,1 Mio.; 2010: EUR 48,9 Mio.) an, was, trotz des geringeren Absatzvolumens, im Wesentlichen auf höhere Rückstellungen für Gewährleistungen zurückzuführen ist. Im Verhältnis zum Umsatz stiegen die Vertriebskosten im Jahresvergleich ebenfalls an und erhöhten sich von 5% in 2011 um 10 Prozentpunkte auf 15% in 2012 (2010: 6%). Der leichte Rückgang der Vertriebskosten in 2011 war hauptsächlich auf geringere Verkaufsprovisionen, bedingt durch eine Veränderung in der regionalen Umsatzverteilung, sowie niedrigere volumenabhängige Gewährleistungsaufwendungen zurückzuführen.

Im Geschäftsjahr 2012 gingen die allgemeinen Verwaltungskosten im Jahresvergleich um 42% auf EUR 19,6 Mio. (2011: EUR 34,0 Mio.; 2010: EUR 30,1 Mio.) zurück. Dies ist grundsätzlich auf den Rückgang der gewinnabhängigen variablen Verwaltungskosten, den Abbau von Zeitarbeitskräften sowie geringere Aufwendungen für externe Dienstleistungen und Beratung zurückzuführen. Im Gegensatz dazu war der 13%ige Anstieg der allgemeinen Verwaltungskosten in 2011 wesentlich durch den Anstieg der Mitarbeiterzahlen in der Verwaltung sowie höhere IT-Infrastrukturkosten und Beratungsaufwendungen verursacht. Im Verhältnis zum Umsatz stiegen die Verwaltungskosten im Jahresvergleich von 6% in 2011 um 3 Prozentpunkte auf 9% in 2012 (2010: 4%) an, was primär auf das geringere Umsatzvolumen in Verbindung den unterproportionalen Kosteneinsparungen zurückzuführen ist.

F&E-Eckdaten

2012 2011 2010 2012-2011

F&E-Aufwendungen (Mio. EUR)

72,9 50,4 46,1 45%

F&E-Aufwendungen als % der Umsatzerlöse

32 8 6  

F&E-Mitarbeiter (Durchschnitt Berichtszeitraum)

337 279 240 21%

F&E-Mitarbeiter als % der gesamten Belegschaft (Durchschnitt Berichtszeitraum)

34 32 32  

Die Forschungs- und Entwicklungskosten stiegen im Jahresvergleich um 45%, von EUR 50,4 Mio. in 2011 (2010: EUR 46,1 Mio.) auf EUR 72,9 Mio. in 2012, was die weiterhin hohe Bedeutung strategischer F&E-Investitionen bei AIXTRON widerspiegelt. Im Geschäftsjahr 2011 waren die F&E-Kosten bereits um 9% gestiegen, was auf die planmäßig intensivierten Entwicklungsaktivitäten, einschließlich zusätzlicher Personal- und Materialkosten, zurückzuführen war. Diese Aktivitäten resultieren aus der strategischen Notwendigkeit, eine intensive F&E-Arbeit aufrechtzuerhalten, um die Technologieführerschaft der Gesellschaft zu sichern. Als Folge der gestiegenen F&E-Kosten und des gleichzeitigen Rückgangs der Umsatzerlöse stieg der Anteil der F&E-Kosten am Umsatz von 8% in 2011 (6% in 2010) auf 32% in 2012 an.

Personalkosten 2012 2011 2010 2012-2011
  Mio. EUR Mio. EUR Mio. EUR Mio. EUR %

Herstellungskosten

 30,9  26,5  23,8  4,4 17

Vertriebs- und Verwaltungskosten

 19,3  25,9  24,3  -6,6  -26

Forschungs- und Entwicklungskosten

 30,9  24,2  21,8  6,7  28

Gesamt

 81,1  76,6  69,9  4,5  6

Bedingt durch den Anstieg der durchschnittlichen Mitarbeiterzahl von 864 in 2011 auf 980 in 2012, hauptsächlich in den Bereichen F&E sowie Vertrieb, stiegen die Personalkosten um 6% von EUR 76,6 Mio. in 2011 auf EUR 81,1 Mio. in 2012 (2010: EUR 69,9 Mio.). Dies belebt die Durchführung notwendiger Investitionen in zielgerichtete F&E-Programme (die durchschnittliche Anzahl der F&E-Mitarbeiter stieg um 21%), um die Technologieführerschaft der Gesellschaft, die ein wesentliches Element in der langfristigen Strategie darstellt, weiter aufrechtzuerhalten. Aufgrund der geringeren Umsatzerlöse stieg die Personalaufwandsquote um 23 Prozentpunkte von 13% in 2011 auf 36% in 2012 (2010: 9%). Absolut betrachtet ging die Zahl der Beschäftigten von 978 zum 31. Dezember 2011 auf 964 zum 31. Dezember 2012 zurück. Dabei wurden Personalzuwächse, im Wesentlichen in Forschung & Entwicklung, durch den Personalabbau in der Verwaltung (116 vs. 125) sowie in Produktion und Service (427 vs. 450) überkompensiert.

Die saldierten sonstigen betrieblichen Erträge und Aufwendungen beliefen sich im Jahr 2012 auf einen betrieblichen Aufwand in Höhe von EUR 5,5 Mio. im Vergleich zu einem Aufwand von EUR 2,0 Mio. in 2011 (2010: Aufwand in Höhe von EUR 11,1 Mio.), was hauptsächlich auf Währungseffekte zurückzuführen war, die nicht von den im Jahresverlauf erhaltenen höheren Zuschüssen für Forschung und Entwicklung ausgeglichen werden konnten.

Im Jahr 2012 wurden saldierte Währungsaufwendungen in Höhe von EUR 6,9 Mio. (2011: EUR 2,1 Mio.; 2010: EUR 17,2 Mio.) hauptsächlich für die USD/EUR-Wechselkursabsicherung (EUR 6,8 Mio.) gebucht.

In 2012 erhaltene Zuschüsse für Forschung und Entwicklung wurden als sonstige betriebliche Erträge in Höhe von EUR 2,7 Mio. (2011: EUR 1,4 Mio.; 2010: EUR 3,5 Mio.) gebucht.

Betriebsergebnis (EBIT)

Das Betriebsergebnis (EBIT) ging im Jahresvergleich deutlich zurück und ergab im Geschäftsjahr 2012 einen Verlust in Höhe von EUR -132,3 Mio. (2011: EUR 112,9 Mio.; 2010: EUR 275,5 Mio.). Dies resultierte in einer EBIT-Marge von -58% (18% in 2011; 35% in 2010). Diese Entwicklung war grundsätzlich auf das deutlich verringerte Bruttoergebnis, das aus der oben beschriebenen Entwicklung der Herstellungskosten resultierte, in Verbindung mit dem ebenfalls dargestellten absoluten Anstieg der Betriebskosten zurückzuführen, Der Rückgang des Betriebsergebnisses in 2011 hatte seine Ursache hauptsächlich in einer rückläufigen Umsatzentwicklung in Verbindung mit einer vergleichswiese höheren Kostenbasis, inklusive durchgeführter Wertberichtigungen auf Vorratsvermögen.

Ergebnis vor Steuern

Das Ergebnis vor Steuern rutschte ebenfalls in die Verlustzone und verringerte sich von EUR 115,0 Mio. in 2011 (2010: EUR 278,2 Mio.) auf EUR -129,9 Mio. in 2012. Dabei wurden im Berichtsjahr Finanzerträge in Höhe von EUR 2,4 Mio. erzielt (2011: EUR 2,1 Mio.; 2010: EUR 2,7 Mio.).

Zinsen und Steuern

2012 2011 2010 2012-2011
 

Mio. EUR

Mio. EUR

Mio. EUR

Mio. EUR

%

Zinsergebnis

2,3 2,1 2,7 0,2 10
Zinsertrag 2,3 3,4 2,8 -1,1 -32

Zinsaufwendung

0,0 -1,3 -0,1 1,3 -100

Ertragsteueraufwand

-15,5 -35,4 -85,7 19,9 -56

Im Geschäftsjahr 2012 wies AIXTRON einen Ertragsteueraufwand in Höhe von EUR 15,5 Mio. aus. Dieser resultierte hauptsächlich aus der Abwertung zuvor aktivierter latenter Steuern. Die Anpassung wurde notwendig aufgrund der weiterhin mangelnden Transparenz der wirtschaftlichen Rahmenbedingungen und einer bisher ausgebliebenen deutlichen Erholung der Nachfrage für LED-Produktionsanlagen (2011: Ertragsteueraufwand von EUR 35,4 Mio. oder 31%; 2010: Ertragsteueraufwand von EUR 85,7 Mio. oder 31%). Auf Verlustvorträge in Höhe von EUR 90,9 Mio. wurden keine latenten Steuerforderungen aktiviert (2011: EUR 16,1 Mio.; 2010: EUR 17,1 Mio.)

Netto-Konzernergebnis

Das Nettoergebnis des AIXTRON Konzerns betrug im Geschäftsjahr 2012 EUR -145,4 Mio. gegenüber EUR 79,5 Mio. (13% vom Umsatz) im Jahr 2011 (2010: EUR 192,5 Mio. bzw. 25% vom Umsatz).

Nettoergebnis AIXTRON SE-Ergebnisverwendung

Die Muttergesellschaft des AIXTRON Konzerns, die AIXTRON SE, hat im Geschäftsjahr 2012 nach den Rechnungslegungsvorschriften des Handelsgesetzbuches (HGB) einen Bilanzverlust in Höhe von EUR -51,6 Mio. erzielt (2011: EUR 77,0 Mio.; 2010: EUR 124,9 Mio.).

Vorstand und Aufsichtsrat der AIXTRON SE werden der Hauptversammlung vorschlagen, den Bilanzverlust des Geschäftsjahres 2012 auf neue Rechnung vorzutragen. Für das Geschäftsjahr 2011 war noch eine Dividende von EUR 25,4 Mio. bzw. EUR 0,25 pro Aktie (für 2010: EUR 60,7 Mio. bzw. EUR 0,60 pro Aktie) ausgeschüttet worden.

Anlagen-Aufträge

2012 2011 2010 2012-2011
(in Millionen EUR)

 

     

Mio. EUR

%

Anlagen-Auftragseingang

131,4 513,4 748,3 -382,0 -74

Anlagen-Auftragsbestand (Periodenende)

  79,4 141,0 274,8   -61,6 -44

Der Anlagen-Auftragseingang ging im Geschäftsjahr 2012 um 74% auf EUR 131,4 Mio. zurück (2011: EUR 513,4; 2010: EUR 748,3 Mio.). Dies ist eine Folge der anhaltenden Investitionszurückhaltung der AIXTRON Kunden. Aufgrund interner Vorschriften wurden in 2012 Auftragseingänge in US-Dollar jeweils zum vorher festgelegten Jahres-Budgetkurs von 1,40 USD/EUR umgerechnet (2011: 1,35 USD/EUR; 2010: 1,50 USD/EUR).

Der gesamte Anlagen-Auftragsbestand lag zum 31. Dezember 2012 mit EUR 79,4 Mio. um 44% unter dem Vorjahresbestand (31. Dezember 2011: EUR 141,0 Mio.; 31. Dezember 2010: 274,8 Mio.). Zum Jahresende 2012 waren Aufträge in USD zum vorher festgelegten Jahres-Budgetkurs von 1,40 USD/EUR bewertet (2011: EUR 1,35 USD/EUR; 2010: 1,50 USD/EUR). Zum 1. Januar 2013 wurde dieser Bestand mit dem Budgetkurs für 2013, d.h. mit 1,30 USD/EUR neu bewertet, was zu einem Gesamt-Anlagen-Auftragsbestand in Höhe von EUR 83,8 Mio. führte.

Im Rahmen eines strengen internen Vorsichtsprinzips hat AIXTRON klare interne Bedingungen definiert, die für die Erfassung von Anlagenaufträgen im Auftragseingang und Auftragsbestand erfüllt sein müssen. Diese Bedingungen umfassen die folgenden Mindestanforderungen:

  1. das Vorliegen einer festen schriftlichen Bestellung und
  2. der Eingang der vereinbarten Anzahlung und
  3. die Verfügbarkeit aller für die Lieferung benötigten Dokumente und
  4. die Vereinbarung eines vom Kunden bestätigten Lieferdatums.

Darüber hinaus, und als Ausdruck der aktuellen Marktbedingungen, behält sich der Vorstand das Recht vor, auch wenn ein Auftrag die oben genannten Anforderungen erfüllen sollte, zu prüfen, ob die tatsächliche Umsetzung jedes einzelnen Auftrags innerhalb eines angemessenen Zeitraums nach Meinung des Vorstands auch hinreichend wahrscheinlich ist. Wenn der Vorstand im Rahmen dieser Prüfung zu dem Schluss kommt, dass die Realisierung eines Umsatzes einer Produktionsanlage mit einem unakzeptabel hohen Risiko behaftet ist, wird das Management diesen spezifischen Auftrag, oder einen Teil dieses Auftrags, solange von der Erfassung als Auftragseingang und Auftragsbestand ausschließen, bis das Risiko auf ein vertretbares Maß gesunken ist. Die Erfüllung der oben genannten Mindestanforderungen 1 – 4 wäre hierbei nicht entscheidend.

4
Finanzlage

AIXTRON verfügt über ein zentrales Finanzmanagement für die globale Liquiditätssteuerung und das Zins- und Währungsmanagement.

Aufgrund der Dynamik der Halbleiterindustrie ist ein ausreichender Bestand an liquiden Mitteln erforderlich, um eine mögliche Geschäftsausweitung schnell finanzieren zu können. Der laufende Finanzmittelbedarf von AIXTRON wird im Allgemeinen durch Mittelzuflüsse aus der laufenden Geschäftstätigkeit sowie zu einem geringeren Teil durch staatliche Zuschüsse gedeckt. Zur Sicherung der weiteren Unternehmensfinanzierung und zur Unterstützung der unverzichtbaren Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten kann das Unternehmen auf eine starke Eigenkapitalbasis zurückgreifen. Zusätzlich hat die Hauptversammlung entsprechende Beschlüsse gefasst, die AIXTRON, falls erforderlich und unter dem Vorbehalt der Zustimmung durch den Aufsichtsrat, Finanzinstrumente am KAPITALMARKT zu emittieren, um zusätzlichen Kapitalbedarf zu decken.

AIXTRON erlöst einen wesentlichen Teil seiner Umsätze in Fremdwährungen, d.h. in anderen Währungen als dem Euro. Die für AIXTRON vorherrschende Fremdwährung ist der US-Dollar. Zur Absicherung des Wechselkursrisikos schließt die Gesellschaft regelmäßig Kurssicherungsgeschäfte ab. Mit diesen werden erwartete Zahlungszuflüsse aus fest kontrahierten und erwarteten Kundenaufträgen abgesichert.

Das Grundkapital der AIXTRON SE betrug zum 31. Dezember 2012 EUR 101.975.023 (31. Dezember 2011: EUR 101.789.527; 31. Dezember 2010: EUR 101.179.866). Es ist eingeteilt in 101.975.023 auf den Namen lautende Stammaktien ohne Nennbetrag mit einem anteiligen Betrag am Grundkapital von EUR 1,00 je Aktie.

Den Vorstandsmitgliedern und Mitarbeitern wird über spezielle Aktienoptionsprogramme die Möglichkeit einer Beteiligung am Grundkapital der Gesellschaft ermöglicht. Im Geschäftsjahr 2012 wurden insgesamt 185.496 Aktienoptionen (2011: 609.661 Optionen; 2010: 513.014 Optionen) ausgeübt und 185.496 Stammaktien bezogen. Im Geschäftsjahr 2012 wurden im Rahmen der Tranche 2012 des Aktienoptionsprogramms 2007 insgesamt 31.000 neue Aktienoptionen ausgegeben (Tranche 2011: 14.000 Optionen; Tranche 2010: 779.950 Optionen, jeweils unter dem Aktienoptionsprogramm 2007).

AIXTRON Stammaktien

31. Dez 2012

Ausübung

Verfallen/Verwirkt

Zuteilung

31. Dez 2011

Bezugsrechte

3.611.098

185.496

86.570

31.000

3.852.164

unterliegende Aktien

4.274.126

185.496

91.019

31.000

4.519.641

AIXTRON ADS

31. Dez 2012

Ausübung

Verfallen/Verwirkt

Zuteilung

31. Dez 2011

Optionen

6.610

 0

 0

 0

 6.610

unterliegende Aktien

6.610

0

0

 0

6.610

Eine ausführliche Beschreibung der verschiedenen AIXTRON Aktienoptionsprogramme sowie eine Zusammenfassung der durchgeführten Transaktionen befinden sich in Anmerkung 23 „Aktienbasierte Vergütungen" des Konzern-Anhangs.

Zum 31. Dezember 2012 bestanden bei AIXTRON, wie zu den beiden Vorjahresstichtagen, keine Bankverbindlichkeiten.

Die AIXTRON SE vergibt je nach Bedarf Kredite und Finanzabsicherungsinstrumente an ihre Tochtergesellschaften, wenn dies für eine effiziente Fortführung der Geschäfte erforderlich ist. Das Unternehmen hat auf seine Grundstücke und Immobilien keine Sicherungsrechte gewährt.

Die Eigenkapitalquote erhöhte sich auf 84% zum 31. Dezember 2012 gegenüber 81% am 31. Dezember 2011 (31. Dezember 2010: 73%) bei einer im Vergleich zu 2011 um 28% niedrigeren Bilanzsumme (-6% in 2011 im Vergleich zu 2010). Die hohe Eigenkapitalquote in 2011 wurde hauptsächlich durch den Anstieg der Gewinnrücklagen um EUR 38,8 Mio. erreicht.

Aufgrund des negativen Nettoergebnisses im Geschäftsjahr 2012 belief sich die Eigenkapitalrendite ROE (Konzernjahresergebnis zu Durchschnitt aus Jahresanfangs- und Jahresendwert des Eigenkapitals) auf -26% (2011: 13%; 2010: 38%).

Zur Finanzierung der zukünftigen Geschäftsentwicklung untersucht das Unternehmen auch weiterhin regelmäßig zusätzliche Möglichkeiten der Mittelbeschaffung.

Im Geschäftsjahr 2012 tätigte AIXTRON Investitionen in Höhe von insgesamt EUR 16,5 Mio. (2011: EUR 30,2 Mio.; 2010: EUR 51,9 Mio.).

EUR 15,8 Mio. (2011: EUR 27,2 Mio.; 2010: EUR 48,6 Mio.) wurden im Geschäftsjahr 2012 in Sachanlagen (einschließlich Test- und Laboreinrichtungen) investiert. Dies beinhaltet Investitionen von EUR 3,8 Mio. hauptsächlich für das chinesische Trainings- und Demonstrationszentrum der Gesellschaft in Suzhou sowie für Laborausrüstung. Im Geschäftsjahr 2011 waren EUR 16,7 Mio. auf Investitionen in das seinerzeit im Bau befindliche F&E-Zentrum in Herzogenrath (Phase II) entfallen.

Investitionen in immaterielle Vermögenswerte, einschließlich Softwarelizenzen, beliefen sich auf EUR 0,7 Mio. (2011: EUR 3,0 Mio.; 2010: EUR 3,3 Mio.).

Die Verringerung der Festgeldanlagen mit einer Laufzeit von mindestens 3 Monaten um EUR 11,9 Mio. war in 2012 als Mittelzufluss aus Investitionstätigkeit auszuweisen. Im Vorjahr waren EUR 80,5 Mio. als Mittelzufluss aus Investitionstätigkeit ausgewiesen worden.

Sämtliche Investitionen der Geschäftsjahre 2012, 2011 und 2010 wurden aus dem operativen Cashflow und verfügbaren liquiden Mitteln getätigt.

Der Bestand an liquiden Mitteln inklusive kurzfristiger Finanzanlagen (Bankeinlagen, vornehmlich in Euro, mit einer Laufzeit von mindestens drei Monaten, siehe auch „Investitionen") verringerte sich um 29% oder EUR 85,7 Mio. auf EUR 209,5 Mio. (EUR 99,7 Mio. + EUR 109,8 Mio. Finanzanlagen) zum 31. Dezember 2012 (31. Dezember 2011: EUR 172,9 Mio. + EUR 122,3 Mio.; 31. Dezember 2010: EUR 182,1 Mio. + EUR 202,6 Mio.).

Faktoren, die den Bestand an liquiden Mitteln zum Jahresende 2012 verringerten, stammen insbesondere aus dem negativen Nettoergebnis (EUR -145,4 Mio.), dem Rückgang der Kundenanzahlungen, der Dividendenausschüttung für das Geschäftsjahr 2011 und den oben genannten Investitionen. Diese Mittelabflüsse konnten von den Zuflüssen aus Optionsausübungen (EUR 0,9 Mio.) und dem Abbau von Forderungen aus Lieferungen und Leistungen nicht kompensiert werden. Im Geschäftsjahr 2011 umfassten die liquiditätssteigernden Mittelzuflüsse insbesondere das Nettoergebnis 2011 (EUR 79,5 Mio.) sowie Optionsausübungen (EUR 3,2 Mio.). Diese wurden jedoch durch die geleistete Dividendenzahlung (EUR 60,7 Mio.), den Rückgang der erhaltenen Kundenanzahlungen, höhere Vorräte sowie die oben genannten Investitionen überkompensiert.

Der Zugriff auf die liquiden Mittel der Gesellschaft unterliegt keinen Beschränkungen.

5
Vermögenslage

Das Sachanlagevermögen erhöhte sich zum 31. Dezember 2012 leicht um 1% auf EUR 97,6 Mio. (31. Dezember 2011: EUR 96,2 Mio.; 31. Dezember 2010: EUR 77,9 Mio.). Dies war hauptsächlich auf die im Jahresverlauf getätigten Anschaffungen von Laboranlagenzurückzuführen. Der stärkere Anstieg im Geschäftsjahr 2011 hat seine Ursache in den fortgesetzten Investitionen in den Bau des F&E-Zentrums in Herzogenrath, das als Sachanlage/Anlagen im Bau gebucht wurde, sowie auf eine erhöhte Anzahl von Laboranlagen, wobei Zugänge zu technischen Anlagen teilweise durch Abschreibungen ausgeglichen wurden.

Die bilanzierten Geschäfts- und Firmenwerte bleiben mit EUR 64,3 Mio. zum 31. Dezember 2012 stabil (31. Dezember 2011: EUR 64,1 Mio.; 31. Dezember 2010: EUR 62,2 Mio.) und waren nur minimal durch Wechselkursänderungen beeinflusst. Wesentliche Zugänge bzw. außerplanmäßigen Abschreibungen auf Geschäfts- und Firmenwerte wurden in den Geschäftsjahren 2010 bis 2012 nicht vorgenommen.

Die bilanzierten sonstigen immateriellen Vermögenswerte gingen um 32% von EUR 6,2 Mio. zum 31. Dezember 2011 (31. Dezember 2010: EUR 7,0 Mio.) auf EUR 4,2 Mio. zum 31. Dezember 2012 zurück. Dies ist, wie schon im Geschäftsjahr 2011, im Wesentlichen auf planmäßige Abschreibungen zurückzuführen.

Der Vorratsbestand, inklusive Rohstoffe, unfertige und fertige Erzeugnisse, ging hauptsächlich aufgrund der vorgenommenen Abschreibungen auf Vorratsvermögen um 32% von EUR 184,6 Mio. zum 31. Dezember 2011 (31. Dezember 2010: EUR 167,2 Mio.) auf EUR 126,0 Mio. zum 31. Dezember 2012 zurück. Dies erklärt sich einerseits durch die oben genannten Abschreibungen und andererseits durch den erhöhten Abverkauf von im Lager befindlichen Anlagen. Der Anstieg des Vorratsbestands in 2011, trotz Wertberichtigung in Höhe von EUR 40,0 Mio., war hauptsächlich auf die kundenseitigen Verschiebungen von Lieferterminen zurückzuführen.

Forderungen aus Lieferungen und Leistungen verringerten sich im Einklang mit dem rückläufigen Geschäftsvolumen um 53% von EUR 78,6 Mio. zum 31. Dezember 2011 (31. Dezember 2010: EUR 88,4 Mio.) auf EUR 37,3 Mio. zum 31. Dezember 2012. Der Rückgang der Forderungen aus Lieferungen und Leistungen in den Geschäftsjahren 2012 und 2011 erklärt sich aus dem jeweils rückläufigen Geschäftsvolumen in den betreffenden Jahren.

Auch die Verbindlichkeiten aus Lieferungen und Leistungen nahmen aufgrund des rückläufigen Geschäftsvolumens ab. Zum 31. Dezember 2012 lagen sie mit EUR 9,7 Mio. um 53% unter dem Niveau des Vorjahres (31. Dezember 2011: EUR 20,5 Mio.; 31. Dezember 2010: EUR 39,6 Mio.). Aus dem gleichen Grund gingen die kurzfristigen Rückstellungen um 20% von EUR 36,6 Mio. zum 31. Dezember 2011 auf EUR 29,4 Mio. zum 31. Dezember 2012 (31. Dezember 2010: EUR 43,5 Mio.) zurück. Die erhaltenen Kundenanzahlungen verringerten sich zum 31. Dezember 2012 von EUR 64,9 Mio. zum 31. Dezember 2011 auf EUR 46,0 Mio. zum 31. Dezember 2012 (31. Dezember 2010: EUR 117,5 Mio.).

Vor dem Hintergrund eines sehr anspruchsvollen gesamtwirtschaftlichen Umfelds war das Geschäftsjahr 2012 ein sehr schwieriges Jahr für AIXTRON, das von deutlich gesunkenen Umsatzerlösen und einer negativen Ertragslage gekennzeichnet war. Zu Beginn des Jahres 2012 war der Vorstand davon ausgegangen, dass 2012 ein Übergangsjahr sein werde: mit niedrigeren Umsatzerlösen sowie möglicherweise einer Konsolidierung der Kundenbasis in der ersten Jahreshälfte, aber mit Aussicht auf eine deutliche Verbesserung im zweiten Halbjahr.

Die wirtschaftliche Lage verschlechterte sich jedoch im Jahresverlauf zunehmend, was wiederum negative Auswirkungen auf das Timing von Anlagenbestellungen und Auslieferungen hatte. Die Auftragseingänge stiegen zwar in der zweiten Jahreshälfte, allerdings bei Weitem nicht so stark wie ursprünglich erwartet.

Infolge der ausgebliebenen Markterholung im zweiten Halbjahr und nach einer umfangreichen internen Überprüfung der kurzfristigen Marktaussichten kündigte der Vorstand im Oktober an, dass AIXTRON im Geschäftsjahr 2012 nicht die Gewinnzone erreichen werde. Die gleichzeitige Risikobewertung, die im Rahmen dieser Geschäftsüberprüfung durchgeführt wurde, hat ergeben, dass das Risiko einer weiter anhaltenden Marktschwäche eine Neubewertung bestimmter unfertiger Erzeugnisse, Komponenten und Ersatzteile nötig macht. Folgerichtig wurden umfangreiche Abschreibungen auf das Vorratsvermögen vorgenommen.

Der leichte Anstieg der Nachfrage im zweiten Halbjahr 2012 bestärkt den Vorstand darin, dass die Talsohle des aktuellen Marktabschwungs durchschritten ist. Allerdings bewegt sich das Marktgeschehen absolut betrachtet weiterhin auf einem sehr niedrigen Niveau.

Nach dem Bilanzstichtag 2012 sind keine weiteren Ereignisse von besonderer Bedeutung mit erheblichen Auswirkungen auf die Ertrags-, Finanz- oder Vermögenslage eingetreten.

8
Risikobericht

AIXTRON ist ein international tätiges Technologieunternehmen und damit einer Vielzahl von Risiken ausgesetzt, denen jedoch auch entsprechende Chancen gegenüberstehen. Zur Nutzung von Chancen und zur Minimierung von Risiken setzt AIXTRON ein konzernweites Risikomanagementsystem ein, das laufend an das sich ändernde Marktumfeld und an Veränderungen der Geschäftsprozesse angepasst wird.

Eine Vielzahl von Systemen und Verfahren zur Überwachung, Analyse und Dokumentation von Unternehmensrisiken und -chancen wird auf unterschiedlichen Organisationsebenen der Gesellschaft eingesetzt. Die sogenannte Whistleblower-Regelung und ihre praktische Umsetzung erlauben beispielsweise eine schnelle interne Identifikation kritischer Sachverhalte, bevor sich diese zu Problemen mit negativen Auswirkungen auf die Außendarstellung entwickeln können. Zusätzlich ermöglicht diese den Mitarbeitern aller Hierarchieebenen, ihre Meinung zu äußern, was einer Unternehmenskultur der Ehrlichkeit und Rechtschaffenheit förderlich ist und Ausdruck der Wertschätzung der Meinung aller Mitarbeiter ist. Sorgfältige und zeitnahe Berichterstattung ist das zentrale Element des Risiko- und Chancenmanagements. In verschiedenen Bereichen der Gesellschaft sowie in allen Tochtergesellschaften sind Risikobeauftragte benannt, die für die Risikoberichterstattung verantwortlich sind.

Um Risiken zu minimieren und um Chancen nutzen zu können, verfolgt AIXTRON eine zukunftsorientierte Produktstrategie. Dazu werden aktuelle Marktentwicklungen beobachtet sowie künftige Kundenanforderungen und zu erwartende Änderungen des Marktumfelds eingeschätzt. So bemüht sich AIXTRON um die ständige Weiterentwicklung besonders wichtiger technologischer Alleinstellungsmerkmale. Die Produktstrategie umfasst Maßnahmen zur Schärfung des Profils der Gesellschaft im Markt, die Bildung von Partnerschaften und Allianzen sowie die Schulung von Vertriebspartnern und Anwendern. Im Geschäftsjahr 2012 hat die Gesellschaft die Markttrends und die Aktivitäten ihrer Wettbewerber kontinuierlich beobachtet und die von führenden Marktforschungs­unternehmen erstellten Marktanalysen und -prognosen ausgewertet. In der Produktentwicklung spielen Risikobewusstsein und -bewertung eine entscheidende Rolle. Daher nutzt AIXTRON in diesem Bereich umfassende Projektmanagement- und Qualitätssicherungssysteme.

Flankiert werden diese Maßnahmen durch ein Programm zur Aus- und Weiterbildung von Fach- und Führungskräften sowie durch den Erhalt und den Ausbau der erforderlichen Infrastruktur.

Zur weltweiten Überwachung und Steuerung von Unternehmensinformationen setzt AIXTRON Rechnungslegungs-, Controlling- und Prognoseprogramme ein. Durch die tägliche, wöchentliche, monatliche und vierteljährliche Berichterstattung ist sichergestellt, dass die Informationen über Geschäfts- und Markttrends stets aktuell sind. Neben einer jährlichen Budgetplanung werden im Unternehmen stets zeitnahe Prognosen zur laufenden Überprüfung und Aktualisierung der Unternehmensplanung herangezogen. Abweichungen zwischen Soll- und Ist-Zahlen werden im Rahmen des Unternehmenscontrollings laufend identifiziert und analysiert und sind damit Grundlage für die Entwicklung von notwendigen Korrekturmaßnahmen.

Weiterhin analysiert der Vorstand regelmäßig die Vermögens-, Finanz- und Ertragslage der Gesellschaft. Der laufende Erfahrungsaustausch auf allen Hierarchieebenen weltweit stellt eine effiziente Informationsweitergabe und eine rasche Entscheidungsfindung sicher.

Der Aufsichtsrat der Gesellschaft wird, soweit erforderlich, vom Vorstand mindestens vierteljährlich, in der Regel jedoch in kürzeren Abständen, über alle wichtigen Entscheidungen unterrichtet bzw. in diese miteinbezogen. Zur Erörterung, Analyse und Überwachung der im Rahmen der laufenden Geschäftstätigkeit auftretenden Finanzfragen tritt der Prüfungsausschuss des Aufsichtsrats regelmäßig mit dem Vorstand zusammen. Die internen Richtlinien hinsichtlich Risikomanagement, Insiderhandel und der Offenlegung kursrelevanter Informationen stellen sicher, dass sämtliche in diesem Bereich geltenden Gesetze eingehalten und die im Deutschen CORPORATE GOVERNANCE Kodex enthaltenen Empfehlungen zur Unternehmensführung und -steuerung umgesetzt werden.

Außerdem wird der Aufsichtsrat über Status, Plausibilität und Weiterentwicklung des Risikomanagementsystems laufend vom Vorstand unterrichtet. Ferner ist es Aufgabe des Abschlussprüfers, den Aufsichtsrat über seine Prüfung des Risikofrüherkennungssystems zu informieren.

Aufgrund der Notierung der AIXTRON SE an der amerikanischen Technologiebörse NASDAQ ist der Vorstand dafür verantwortlich, die in den Regelungen des Securities and Exchange Act im US Code of Federal Regulations, Title 17, Chapter II, § 240, 13a–15(f) oder 15d–15(f) geforderten internen Kontrollen für die Finanzberichterstattung einzurichten und zu unterhalten. Damit werden eine zuverlässige Finanzberichterstattung und die einwandfreie Erstellung des Jahresabschlusses sichergestellt. Interne Kontrollen der Finanzberichterstattung umfassen Richtlinien und Verfahren, welche die Führung der Handelsbücher nach den Grundsätzen ordnungsgemäßer Buchführung sicherstellen. Die Buchführung muss so beschaffen sein, dass ein auf dieser Grundlage erstellter Jahresabschluss ein den tatsächlichen Verhältnissen entsprechendes Bild der Vermögens-, Ertrags- und Finanzlage des Unternehmens vermittelt. Darüber hinaus stellt ein Berechtigungskonzept sicher, dass sämtliche Geschäftsvorfälle durch den Vorstand bzw. durch ihn autorisierte Personen genehmigt werden. So kann in angemessenem Maße sichergestellt werden, dass unberechtigte Anschaffungen, Verwendungen oder Veräußerungen von Vermögenswerten des Unternehmens, die wesentliche Auswirkungen auf den konsolidierten Konzernjahresabschluss haben könnten, verhindert oder rechtzeitig aufgedeckt werden.

Der Vorstand der AIXTRON SE hat die internen Kontrollen für die Finanzberichterstattung zum Ende des Geschäftsjahres 2012 beurteilt. Die Beurteilung erfolgte auf Grundlage der Kriterien des „Internal Control Integrated Framework", das vom Committee of Sponsoring Organizations der Treadway Commission (COSO) herausgegeben wurde. Die Beurteilung durch den Vorstand beinhaltete die Gestaltung und die Effektivität der wichtigsten Kontrollen der Finanzberichterstattung, der Prozessdokumentation, der internen Bilanzierungsrichtlinien sowie des Kontrollumfelds. Die Wirksamkeit der Kontrollen wird durch Tests nachgewiesen und durch Überwachungsmaßnahmen sichergestellt. Falls bei einem Test ein Problem identifiziert werden sollte, erfolgt eine Rückmeldung in die Organisation und eine Lösung des Problems wird initiiert. Die internen Kontrollen für die Finanzberichterstattung sind so aufgestellt, dass sie kontinuierlich an die dynamische Entwicklung des Unternehmens angepasst werden.

Nach Einschätzung des Vorstands war das interne Kontrollsystem des Unternehmens für die Finanzberichterstattung zum 31. Dezember 2012 wirksam. Es stellte in geeigneter Weise die Zuverlässigkeit der Finanzberichterstattung und des Jahresabschlusses für externe Berichtszwecke sicher. Der Vorstand der AIXTRON SE hat das Ergebnis dieser Beurteilung mit dem Prüfungsausschuss des Aufsichtsrats erörtert.

Die unabhängige Wirtschaftsprüfungsgesellschaft Deloitte & Touche GmbH hat den in diesem Geschäftsbericht enthaltenen Konzern-Abschluss geprüft und zusätzlich einen uneingeschränkten „Attestation Report" gemäß den Regelungen von Abschnitt 404 des SARBANES-OXLEY ACT von 2002 zu der Wirksamkeit der internen Kontrollen für die Finanzberichterstattung erstellt.

Währungsrisiko und andere Finanzrisiken

AIXTRON erlöst einen wesentlichen Teil seiner Umsätze in Fremdwährungen, d.h. in anderen Währungen als dem Euro. Die für AIXTRON vorherrschende Fremdwährung ist der US-Dollar. Eine ungünstige Entwicklung, insbesondere des US-Dollar/Euro-Wechselkurses, wirkt sich negativ auf die Ertragslage des Unternehmens aus. Zur Absicherung des Wechselkursrisikos schließt die Gesellschaft regelmäßig Kurssicherungsgeschäfte ab. Mit diesen werden erwartete Zahlungszuflüsse aus fest kontrahierten und erwarteten Kundenaufträgen abgesichert. Aus diesen Kurssicherungsgeschäften können bei einer ungünstigen Wechselkursentwicklung Kursverluste resultieren.

AIXTRON beliefert eine Vielzahl von Kunden weltweit und ist damit den üblichen Ausfallrisiken ausgesetzt. Diesem Risiko begegnet das Unternehmen durch konsequente Zahlungsabsicherung, insbesondere durch Anzahlungen, Akkreditive und Bankbürgschaften. Im Anhang zum Konzern-Abschluss 2012 sind diese Instrumente im Abschnitt „Forderungen aus Lieferungen und Leistungen und sonstige kurzfristige Vermögenswerte" näher beschrieben.

AIXTRON überprüft regelmäßig die Bonität ihrer Banken und wird bei gegebener Veranlassung eine Veränderung bei der Auswahl dieser Partner vornehmen.

Der laufende Finanzmittelbedarf von AIXTRON wird im Allgemeinen durch Mittelzuflüsse aus der laufenden Geschäftstätigkeit sowie zu einem geringeren Teil durch staatliche Zuschüsse gedeckt. AIXTRON verfügt über erhebliche liquide Mittel und hat keine Bankverbindlichkeiten. Im Fall einer sinkenden Nachfrage und damit abnehmender Umsatzerlöse könnten die Mittelzuflüsse aus der laufenden Geschäftstätigkeit nicht ausreichen, um AIXTRON zu finanzieren. In diesem Fall müssten zusätzliche Finanzmittel durch Inanspruchnahme von Kreditlinien, durch die Aufnahme von Fremdkapital am KAPITALMARKT oder durch Eigenkapitalmaßnahmen beschafft werden. Sollte dies nicht möglich sein, ließen sich die Geschäftsaktivitäten von AIXTRON nicht im bisherigen Umfang fortführen.

Unternehmensbezogene Risiken sowie markt- und wettbewerbsbezogene Risiken

Die zukünftigen Entwicklungen in der Halbleiterindustrie sind teilweise schwer vorhersehbar und hoch volatil, wodurch die Geschäftsergebnisse von AIXTRON negativ beeinflusst werden können. Außerdem kann sich dies in einer hohen Volatilität des Preises der AIXTRON Aktien oder ADS äußern.

Im aktuellen Marktumfeld, welches durch eine vorherrschende Investitionszurückhaltung speziell der Hersteller von LEDS gekennzeichnet ist, besteht das Risiko einer weiterhin ausbleibenden Markterholung und einer damit einhergehenden nicht eintretenden Verbesserung der Auftragslage. Dies könnte erhebliche Auswirkungen auf die Vermögens-, Finanz- und Ertragslage haben.

Der Anlagenbau für die Halbleiterindustrie ist von den erheblichen Angebots- und Nachfrageschwankungen der Halbleiterindustrie selbst gekennzeichnet. Obwohl HALBLEITER in vielen verschiedenen Produkten eingesetzt werden, korrelieren die Märkte für diese Produkte in unterschiedlicher Weise. Der Zeitpunkt, die Dauer und der Umfang dieser zyklischen Schwankungen sind nur schwer vorherzusehen. Im Falle einer sinkenden Nachfrage nach Halbleiteranlagen muss AIXTRON in der Lage sein, rechtzeitig seine Kostenstruktur an die geänderten Marktbedingungen anzupassen und die Vorräte rechtzeitig und in ausreichendem Umfang abzubauen und gleichzeitig zu versuchen, Mitarbeiter in Schlüsselpositionen zu halten. Die Fähigkeit der Gesellschaft, Ausgaben als Reaktion auf Umsatzrückgänge schnell zu reduzieren, ist durch einen gewissen Fixkostenanteil eingeschränkt. Steigt die Nachfrage nach Halbleitern, muss AIXTRON in der Lage sein, kurzfristig ausreichende Herstellungskapazitäten und Vorratsbestände aufzubauen sowie eine ausreichende Anzahl qualifizierter Mitarbeiter einzustellen und zu halten.

Es kann nicht ausgeschlossen werden, dass LED-Hersteller vor dem Hintergrund von Schwierigkeiten bei der Bereitstellung von Produktionsstätten oder einer Verknappung der Rohstoffversorgung oder eingeschränkter Verfügbarkeit von Finanzierungsmitteln ihre Produktionsmenge nicht weiter erhöhen können. Sollte dies eintreten, könnten AIXTRON Kunden versuchen, einen Lieferaufschub der bestellten Anlagen zu erwirken.

Kunden verstärken oder verzögern oft ihre Investitionsausgaben oder versuchen als Reaktion auf Veränderungen ihres Geschäftsumfelds oder der Märkte ihre Bestellungen zu stornieren oder zu verschieben. Daraus resultiert die Notwendigkeit, dass AIXTRON schnell auf diese Angebots- und Nachfrageschwankungen reagieren muss. Das Scheitern einer Anpassung der Kostenstruktur oder Produktionskapazitäten könnte zu deutlichen Verlusten oder entgangenen Gewinnen bei einer Nachfragesteigerung führen. In beiden Fällen könnten die Geschäftsergebnisse negativ beeinflusst werden, was sich ebenfalls in einer hohen Volatilität des Preises der AIXTRON Aktien oder ADS äußern kann.

Der Zyklizität der Halbleitermärkte begegnet AIXTRON mit einer sehr geringen Fertigungstiefe in der Produktion. Damit stützt sich AIXTRON sehr stark auf seine Zulieferer. Zur Risikominimierung in diesem Bereich nutzt AIXTRON in der Beschaffung in der Regel mindestens zwei Lieferanten pro Artikel.

AIXTRON investiert in erheblichem Maße in Forschung und Entwicklung und der zukünftige Erfolg von AIXTRON hängt entscheidend davon ab, ob es gelingt, die in der Forschung und Entwicklung gewonnenen Erkenntnisse schnell in Markterfolge umzusetzen. Sollte dies nicht gelingen, könnte dies erhebliche Auswirkungen auf die Vermögens- und Ertragslage haben.

Ein insgesamt für die Halbleiterindustrie geschäftstypisches Risiko sind Rechtsstreitigkeiten über Patente und andere Schutzrechte. Es kann daher nicht ausgeschlossen werden, dass AIXTRON solchen Rechtsstreitigkeiten ausgesetzt wird. Die damit verbundenen Kosten können erheblich sein. Diesem Risiko begegnet AIXTRON durch eine ständige und weltweite Patentanalyse.

Eine Darstellung der Risiken finden Sie auch im Abschnitt „Risk Factors" im SEC-Jahresbericht von AIXTRON für das Geschäftsjahr 2012 („Form 20-F"), welcher am 28. Februar 2013 bei der US Securities and Exchange Commission eingereicht wurde.

Der Vorstand hat im abgelaufenen Geschäftsjahr keine bestandsgefährdenden Risiken für die AIXTRON SE und ihre Tochtergesellschaften identifiziert. Risiken, die den Fortbestand des Unternehmens gefährden können, sind auch weiterhin nicht erkennbar.

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Prognosebericht

Kernkompetenz von AIXTRON ist die Entwicklung modernster Technologien zur Abscheidung von Halbleitermaterialien. Hier hat sich die Gesellschaft eine weltweit führende Wettbewerbsposition erarbeitet. Der Vorstand wird diese Spezialisierung weiterverfolgen, indem er die Kernkompetenz sowohl in Bezug auf bestehende als auch neue Absatzmärkte weiter ausbaut. AIXTRON investiert fortlaufend in entsprechende Forschungs- und Entwicklungsprojekte, um die führende technologische Stellung bei MOCVD-Systemen beizubehalten und um gleichzeitig stärker in die Märkte für Hochleistungselektronik, organische HALBLEITER und die nächste Generation von Speicheranwendungen vorzudringen.

AIXTRON nimmt mit seiner Hot-Wall-Planetenreaktor®-Technologie eine führende Rolle auf dem Gebiet spezieller Siliziumkarbid („SiC") EPITAXIE-Anlagen ein. Diese Position wird durch die zunehmende Verbreitung der 6-Zoll-Multi-WAFER-Technologie in den nächsten Jahren weiter ausgebaut werden. Kunden in Europa, USA, China, Japan und Südkorea nutzen AIXTRONs SiC-Anlagen bereits heute für die Produktion schnell schaltender Dioden mit minimalem Energieverlust. Solche Bauteile kommen beispielsweise in der Energieversorgung von Computer-Servern, Flachbildschirm-Fernsehgeräten und Solar-Wechselrichtern zum Einsatz.

Darüber hinaus ist die Gesellschaft im Markt für Galliumnitrid („GaN") auf SILIZIUM („Si") für Leistungselektronik tätig. Diese Materialkombination wird voraussichtlich die herkömmlichen Silizium-BAUELEMENTE für das Energiemanagement innerhalb der kommenden zwei Jahre mehr und mehr ablösen.

Bei Anlagen zur Herstellung großflächiger organischer Halbleiter-Anwendungen setzt AIXTRON weiterhin auf seine OVPD®-und PVPD®-Technologien.

Die Gesellschaft plant darüber hinaus, ihre PECVD-Technologie, mit der Kohlenstoff-Nanostrukturen, wie Kohlenstoff-Nanoröhren, -Nanodrähte oder Graphen, hergestellt werden können, im Forschungsbereich weiter voranzutreiben.

AIXTRONs Silizium-Spezialisten haben die sehr leistungsfähige QXP-8300-ALD-Depositionsanlage entwickelt, die innovative Lösungen für den Markt für Speicherprodukte und integrierte Schaltkreise bietet. AIXTRONs QXP-Produkt wurde kürzlich von einem führenden koreanischen Chiphersteller für seine Produktion qualifiziert. Die Gesellschaft rechnet mit einem signifikanten Umsatzbeitrag, sobald die Industrie Neuinvestitionen für Strukturgrößen von 28nm oder kleiner tätigt.

Der IWF-Bericht vom 23. Januar 2013 prognostiziert für die kommenden Jahre eine leichte Erholung der allgemeinen Wirtschaftslage: Für 2013 erwartet das Institut eine Wachstumsrate von 3,5%, für 2014 von 4,1% (2012: 3,2%). Dieser Ausblick wird jedoch überschattet vom Risiko erneuter Rückfälle im Euro-Raum und der bevorstehenden Budget-Konsolidierung in den USA.

Gartner Dataquest errechnete in einer Studie vom Dezember 2012 eine rückläufige Investitionstätigkeit in der Halbleiterindustrie um 11% auf USD 59,4 Mrd. im Jahr 2012. Für 2013 rechnet Gartner mit einem weiteren Investitionsrückgang um etwa 15% auf ca. USD 50 Mrd. Erst 2014 sollen die Investitionen wieder auf USD 61,2 Mrd. steigen.

Laut Gartner Dataquest werden Investitionen in sogenannte WAFER-Fab-Anlagen, zu denen auch die Depositionsanlagen von AIXTRON gehören, von USD 29,9 Mrd. in 2012 um rund 10% auf USD 27 Mrd. in 2013 zurückgehen. Im Jahr 2014 werden sie voraussichtlich wieder auf USD 32,9 Mrd. steigen.

Finanz- und Marktexperten beziffern das Gesamtvolumen des Marktes für MOCVD-Anlagen zum Jahresende 2012 zwischen USD 450 Mio. und USD 750. Die Experten gehen davon aus, dass es sich im Jahr 2013 auf USD 500 Mio. bis USD 850 Mio. erhöhen wird, wenn der Markt anfängt, sich von den Überkapazitäten in der LED-Produktion zu erholen. 2014 wird die Investitionstätigkeit dann voraussichtlich weiter wachsen und ein Volumen von USD 650 Mio. bis USD 1,3 Mrd. aufweisen.

Der Markt für SILIZIUM-Leistungsbauelemente wird nach Schätzungen von Gartner (August 2012) im Zeitraum von 2011 bis 2016 von USD 10,2 Mrd. auf USD 14,2 Mrd. anwachsen. Der Markt für SiC- und GaN-Leistungsbauelemente, die mit AIXTRON Anlagen hergestellt werden können, soll im Jahr 2016 ein Volumen von USD 600 Mio. erreichen. Eine präzise Schätzung der Marktgröße für die entsprechenden Produktionsanlagen ist zu diesem Zeitpunkt nicht möglich.

Die Marktbereiche, die AIXTRON mit seinen OVPD®, PVPD® und PECVD-Technologien adressiert, haben mittel- bis langfristig ein enormes Wachstumspotenzial, weil die Hersteller ständig um Effizienzverbesserungen bemüht sind. Optimierung von Funktionalitäten und Einsparung von Kosten werden in Zukunft entsprechende Investitionen nötig machen. In dem extrem wettbewerbsintensiven Markt für Fernseher oder Bildschirme sind  neue, effiziente Technologien, wie die oben genannten zur großflächigen Beschichtung mit organischen Materialien, erforderlich um konkurrenzfähig sein zu können. Da der Marktdurchbruch von diesen Spitzentechnologien zeitlich nicht genau abzuschätzen ist, kann zum aktuellen Zeitpunkt noch keine Angabe einer Marktgröße oder eines Marktanteils gemacht werden.

Der Zielmarkt für AIXTRON ALD-Anlagen zur Herstellung spezieller Anwendungen wie Steuerelektroden und Kondensatorstrukturen (Gate Stacks, Capacitors) wird von Gartner Dataquest (Oktober 2012 per Jahresende 2012) auf USD 359 Mio. geschätzt (2013e: USD 337 Mio.; 2014e: USD 411 Mio.). Infolge der kürzlich erreichten Qualifizierung der AIXTRON QXP-Technologie durch einen führenden Chiphersteller könnte AIXTRON in diesem Bereich möglicherweise ein überproportionales Wachstum erzielen.

AIXTRON geht davon aus, dass sich die folgenden Markttrends und Chancen der relevanten Endanwendermärkte positiv auf den weiteren Geschäftsverlauf auswirken werden:

Kurzfristig

  • Zunehmender Einsatz von LEDS bei der öffentlichen und kommerziellen Außen- und Bürobeleuchtung.
  • Verstärkter Einsatz der LED-Technik bei der Wohn- und Innenraumbeleuchtung.
  • Mehr GaN-basierte BAUELEMENTE für die energieeffiziente Leistungselektronik.
  • Entwicklung neuer Bauelemente für NAND-, DRAM- oder PRAM-Speicher der nächsten Generation.
  • Entwicklung neuer Einsatzmöglichkeiten für Bauelemente aus Siliziumkarbid, z.B. in Hybrid- und Elektrofahrzeugen oder bei der Netzeinspeisung von Solarenergie.

Mittelfristig

  • Weitere Fortschritte bei der Forschung an Technologien für OLED-Beleuchtung sowie Bildschirme und großflächige Beschichtung mit organischen Materialien.
  • Weitere Fortschritte bei der Entwicklung von energieeffizienten GaN-auf-Si Hochleistungsschaltelementen oder LEDs.
  • Verstärktes Aufkommen und Weiterentwicklung von flexiblen organischen Dünnfilmtransistoren (TFT), sogenannter Kunststoffelektronik.
  • Verstärkte Entwicklungsaktivitäten bei spezialisierten Anwendungen für Solarzellen aus Verbindungshalbleitern.

Langfristig

  • Fortschritte bei der Entwicklung neuer, komplexer Verbindungshalbleitermaterialsysteme, z.B. als alternative Materialien in der Siliziumhalbleiterindustrie.
  • Entwicklung neuer Materialien mithilfe von Kohlenstoff-Nanostrukturen (Kohlenstoff-Nanoröhren, -Nanodrähte und Graphen).
  • Entwicklung von UV-LED-Anwendungen, z.B. zur Wasserreinigung.

Die weltweite Nachfrage nach LEDS nimmt vor dem Hintergrund der zunehmenden Verbreitung von LED-TVs und der frühzeitigen Akzeptanz von LEDs im Markt für allgemeine Beleuchtungsanwendungen weiter zu. Trotz dieser ermutigenden mittel- bis langfristigen Perspektiven sind AIXTRONs Kunden derzeit mit nennenswerten Investitionen in neue LED-Produktionskapazitäten noch zurückhaltend.

Der Vorstand geht jedoch davon aus, dass sich die Nachfrage nach MOCVD-Produktionsanlagen mit einer weiter steigenden LED-Nachfrage wieder verbessern wird. Allerdings ist der genaue Zeitpunkt nur schwer vorherzusagen und die Visibilität bleibt weiterhin gering.

Darüber hinaus erwartet der Vorstand eine zunehmende Nachfrage nach Anlagen für neu entstehende MOCVD-Anwendungen und andere Technologiebereiche, einschließlich Anwendungen für SILIZIUM- und organische HALBLEITER.

Trotz der grundsätzlich positiveren Aussichten für das Geschäftsjahr 2013 kann der Vorstand aufgrund der weiterhin geringen Visibilität derzeit keine genaue Prognose für Umsatzerlöse und EBIT-Marge im laufenden Geschäftsjahr abgeben.

Dennoch geht der Vorstand unter der Voraussetzung einer deutlichen Marktbelebung davon aus, dass das Geschäftsjahr 2013, gemessen an den Umsatzerlösen und Ergebnissen, besser verlaufen wird als 2012. Dieser Trend wird sich im Geschäftsjahr 2014 möglicherweise sogar noch verstärken. Kurzfristig hängt eine solche Marktbelebung wesentlich von einem soliden Wachstum im Markt für allgemeine LED-Beleuchtungsanwendungen ab. Allerdings bleibt das gesamtwirtschaftliche Umfeld, insbesondere in Europa, weiterhin krisenanfällig. Das könnte zu einem erhöhten Risiko bezüglich des Zeitpunkts der Platzierung erwarteter Aufträge und der Auslieferungen führen. Insgesamt sieht der Vorstand jedoch vermehrt Anzeichen einer weiter zunehmenden Dynamik. Der Vorstand ist davon überzeugt, dass der Tiefpunkt durchschritten ist und dass die Auftragseingänge für AIXTRON Produkte sich wieder deutlich von den aktuellen Tiefständen absetzen werden.

Wir werden weitere Maßnahmen ergreifen, um die Kosten zu senken und die organisatorische Effizienz zu erhöhen. Im Geschäftsjahr 2013 werden wir dem Cashflow unsere besondere Aufmerksamkeit schenken.

Nach Meinung des Vorstands werden die positiven Aussichten für die von AIXTRON adressierten Endmärkte zu einer steigenden Nachfrage nach MOCVD-, Silizium- und organischen Depositionstechnologien führen, sobald sich auch das weltwirtschaftliche Umfeld und das der von AIXTRON adressierten Endmärkte verbessert.

Der Vorstand hält weiterhin an einer zielgerichteten Investitionspolitik im F&E-Bereich fest, da sie es AIXTRON ermöglicht, relevante zukünftige Geschäftsopportunitäten zu nutzen.

Wir gehen weiterhin davon aus, dass die Gesellschaft in den Geschäftsjahren 2013 und 2014 keine Finanzierung durch externe Banken benötigen wird. Wir erwarten darüber hinaus, dass wir in den Geschäftsjahren 2013 und 2014 unsere starke Eigenkapitalbasis behalten werden.

Aufgrund unserer nachgewiesenen Fähigkeiten, Best-in-Class-Depositionsanlagen für eine Vielzahl von Abnehmermärkten zu entwickeln und zu vermarkten, sind wir weiterhin von den positiven kurz-, mittel- und langfristigen Zukunftsaussichten für AIXTRON und seine Zielmärkte überzeugt.

AIXTRON verfügte zum 31. Dezember 2012 über keinerlei rechtsverbindliche Vereinbarungen über Finanzbeteiligungen, Unternehmenserwerbe oder Veräußerungen von Unternehmensteilen.

 Versicherung der gesetzlichen Vertreter im Konzernabschluss

Versicherung der gesetzlichen Vertreter gemäß § 37y Nr. 1 WpHG i.V.m. §§ 297 Abs. 2 Satz 4 und 315 Abs. 1 Satz 6 HGB für den Konzernabschluss:

„Wir versichern nach bestem Wissen, dass, gemäß den anzuwendenden Rechnungslegungsgrundsätzen, der Konzernabschluss ein den tatsächlichen Verhältnissen entsprechendes Bild der Vermögens-, Finanz- und Ertragslage des Konzerns vermittelt und im Konzernlagebericht der Geschäftsverlauf, einschließlich des Geschäftsergebnisses und die Lage des Konzerns, so dargestellt sind, dass ein den tatsächlichen Verhältnissen entsprechendes Bild vermittelt wird, sowie die wesentlichen Chancen und Risiken der voraussichtlichen Entwicklung des Konzerns beschrieben sind."

Herzogenrath, 26. Februar 2013

AIXTRON SE, Herzogenrath
Der Vorstand

 

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